1.一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，包括有支撑底架(1)、摆动组件(2)和限位组件(3)，其特征在于，摆动组件(2)包括有摆动放置框(21)、固定玻璃架(22)、用于培养光合细菌的培养皿(23)、第一支撑架(24)、电动推杆(25)和开槽架(26)；

支撑底架(1)上设置有摆动组件(2)，摆动组件(2)用于代替人工手动摇动培养容器，起让沉淀的光合细菌上浮的作用；

摆动组件(2)上设有限位组件(3)，限位组件(3)用于对摆动组件(2)进行限位；

摆动放置框(21)，支撑底架(1)上转动式连接有摆动放置框(21)；

固定玻璃架(22)，摆动放置框(21)顶部固定安装有固定玻璃架(22)，固定玻璃架(22)便于工作人员观察光合细菌培养情况；

培养皿(23)，摆动放置框(21)上放置有培养皿(23)，培养皿(23)与固定玻璃架(22)紧密贴合，培养皿(23)与固定玻璃架(22)之间形成密闭空间利于光合细菌繁殖；

第一支撑架(24)，第一支撑架(24)固定安装于支撑底架(1)上；

电动推杆(25)，第一支撑架(24)上固定安装有电动推杆(25)；

开槽架(26)，电动推杆(25)伸缩轴顶端焊接有开槽架(26)，开槽架(26)与摆动放置框(21)限位配合，开槽架(26)用于推动摆动放置框(21)摆动。

2.根据权利要求1所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，限位组件(3)包括有限位架(31)和第一弹簧(32)，摆动放置框(21)上对称滑动式连接有限位架(31)，限位架(31)与培养皿(23)相互接触，限位架(31)与摆动放置框(21)之间连接有第一弹簧(32)。

3.根据权利要求2所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，还包括有排气组件(4)，摆动放置框(21)上设置有排气组件(4)，排气组件(4)包括有第一排气管(41)、支撑框(42)、第一滑动支撑架(43)、第二弹簧(44)、第二排气管(45)、第二滑动支撑架(46)、堵塞架(47)、第二支撑架(48)、第一转动块(49)、第二转动块(410)和第三弹簧(411)，摆动放置框(21)上设置有第一排气管(41)，第一排气管(41)与培养皿(23)相通，第一排气管(41)一端连通有支撑框(42)，支撑框(42)上滑动式连接有第一滑动支撑架(43)，第一滑动支撑架(43)上设置有多个出气孔，第一滑动支撑架(43)与支撑框(42)之间连接有第二弹簧(44)，支撑框(42)上联接有第二排气管(45)，支撑框(42)上滑动式连接有第二滑动支撑架(46)，第二滑动支撑架(46)一端焊接有堵塞架(47)，堵塞架(47)与第一滑动支撑架(43)滑动式连接，第一滑动支撑架(43)上焊接有第二支撑架(48)，第二支撑架(48)与第二滑动支撑架(46)相互接触，第二支撑架(48)上转动式连接有第一转动块(49)，第二滑动支撑架(46)上转动式连接有第二转动块(410)，第二转动块(410)与第一转动块(49)之间连接有第三弹簧(411)。

4.根据权利要求3所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，还包括有注入组件(5)，摆动放置框(21)上设置有注入组件(5)，注入组件(5)包括有导液管(51)、第一储液框(52)、第二储液框(53)、开孔板(54)、支撑杆(55)、堵塞板(56)、第四弹簧(57)、挤压架(58)和第五弹簧(59)，摆动放置框(21)上呈均匀排布的方式连接有导液管(51)，导液管(51)与培养皿(23)相通，导液管(51)顶端连通有第一储液框(52)，第一储液框(52)顶部共同固接有第二储液框(53)，第二储液框(53)与摆动放置框(21)固接，第一储液框(52)内焊接有开孔板(54)，开孔板(54)上具有出液口，第一储液框(52)内对称设置有支撑杆(55)，两支撑杆(55)上共同滑动式连接有堵塞板(56)，堵塞板(56)与开孔板(54)相互接触，堵塞板(56)底面固定连接有一对第四弹簧(57)，第四弹簧(57)一端与第一储液框(52)联接，第二储液框(53)上以可升降的方式连接有挤压架(58)，挤压架(58)上固定连接有第五弹簧(59)，第五弹簧(59)一端与第二储液框(53)联接。

5.根据权利要求4所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，还包括有第一拨动组件(6)，挤压架(58)上设有第一拨动组件(6)，第一拨动组件(6)包括有滑动支撑条(61)、滑动卡柱架(62)和固定挡块(63)，挤压架(58)上滑动式连接有滑动支撑条(61)，滑动支撑条(61)底面固定连接有滑动卡柱架(62)，滑动卡柱架(62)与第二滑动支撑架(46)滑动式连接，第一支撑架(24)上方焊接有固定挡块(63)。

6.根据权利要求5所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，还包括有光照组件(7)，摆动放置框(21)上固定安装有光照组件(7)，光照组件(7)包括有第三支撑架(71)和灯架(72)，摆动放置框(21)上固定安装有第三支撑架(71)，第三支撑架(71)上设置有灯架(72)。

7.根据权利要求6所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，还包括有光照强度控制组件(8)，光照强度控制组件(8)设于第三支撑架(71)上，光照强度控制组件(8)包括有第三滑动支撑架(81)、第六弹簧(82)、多卡柱架(83)、棘齿架(84)、第一导向架(85)、第二导向架(86)、固定支撑架(87)、支撑板(88)、棘爪(89)、扭力弹簧(810)和凹面透镜框(811)，第三支撑架(71)上滑动式连接有第三滑动支撑架(81)，第三滑动支撑架(81)上固定连接有一对第六弹簧(82)，第六弹簧(82)一端与第三支撑架(71)联接，第三滑动支撑架(81)上焊接有多卡柱架(83)，多卡柱架(83)上焊接有棘齿架(84)，棘齿架(84)底端设置有第一导向架(85)，第二导向架(86)固接于棘齿架(84)上方，第三支撑架(71)顶面固接有固定支撑架(87)，固定支撑架(87)上滑动式连接有支撑板(88)，支撑板(88)与第一导向架(85)相互接触，支撑板(88)上转动式连接有棘爪(89)，棘爪(89)与棘齿架(84)相互接触，棘爪(89)与支撑板(88)之间连接有扭力弹簧(810)，第三滑动支撑架(81)上设置有凹面透镜框(811)，第三支撑架(71)与凹面透镜框(811)相互接触，灯架(72)位于凹面透镜框(811)内。

8.根据权利要求7所述的一种可控制光照强度的防污染型光合细菌培养装置，其特征在于，还包括有第二拨动组件(9)，第二储液框(53)顶部设置有第二拨动组件(9)，第二拨动组件(9)包括有开槽导向板(91)、拨动条(92)和第七弹簧(93)，第二储液框(53)顶部焊接有开槽导向板(91)，挤压架(58)上滑动式连接有拨动条(92)，开槽导向板(91)与拨动条(92)限位配合，拨动条(92)上联接有第七弹簧(93)，第七弹簧(93)一端与挤压架(58)固接。