利索能及
我要发布
收藏
专利号: 2021112114605
申请人: 大连工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-10-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种提高花青素合成含量的花楸干细胞。

2.一种提高花楸干细胞花青素含量的培养基,其特征在于,所述培养基为魔芋培养基;

其中,每升所述魔芋培养基包括:1‑3g魔芋粉,0.5‑3mgFeCl2和0.5‑5g硝酸钾。

3.一种提高花青素合成含量的花楸干细胞的培养方法,其特征在于,所述培养的方法包括以下具体步骤:

(1)干细胞组织的制备:将花楸无菌苗的根尖预处理后,转接至魔芋诱导培养基上培养

25‑30d,再转接至魔芋增殖培养基经过5‑10次继代培养后,即得到干细胞组织;

(2)花青素的诱导和积累:将所述干细胞组织转接至花青素诱导培养基上培养15‑20d后,再转接至花青素积累培养基培养25‑30d,即得一种花青素高含量花楸干细胞。

4.根据权利要求3所述的培养方法,其特征在于,所述预处理步骤为:取花楸无菌苗的根尖0.1mm,置于含有0.1%KH2PO4+0.1%MgCl2的甘油溶液中处理12h,然后冲洗擦干后依次转移到‑20℃下暗处理8‑10h、0℃下暗处理30min和10℃下暗处理30min。

5.根据权利要求3所述的培养方法,其特征在于,步骤(1)所述魔芋诱导培养基为添加

0.5‑3mg/L 2,4‑D和0.5‑2mg/L 6‑BA的魔芋培养基。

6.根据权利要求3所述的培养方法,其特征在于,步骤(1)所述魔芋增殖培养基为添加

0.5‑1mg/L 2,4‑D的魔芋培养基。

7.根据权利要求3所述的培养方法,其特征在于,步骤(2)所述花青素诱导培养基为添加0.01‑0.05%Ge‑132、0.1‑0.5mg/L 6‑BA和0.5‑2mg/L 2,4‑D的魔芋培养基。

8.根据权利要求3所述的培养方法,其特征在于,步骤(2)中所述花青素积累培养基为添加0.01‑0.05%Ge‑132+0.1‑0.5mg/L 6‑BA的魔芋培养基。

9.根据权利要求3所述的培养方法,其特征在于,步骤(2)中所述培养的条件为:在26‑

28℃和光强1500‑2000LX的照光条件下培养。

10.根据权利要求9所述的培养方法,其特征在于,所述照光时间为14h/24h。