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专利号: 2021105732398
申请人: 韩山师范学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-08-19
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种磁场的测量装置,其特征在于,包括:衬底层(10)、结构层(20)和形变部(202);

所述结构层(20)设置于所述衬底层(10)上;

所述结构层(20)包括周期排布的结构单元,每个结构单元包括n个矩形条(201),所述矩形条(201)两两之间首尾顺次相接围成环形,所述矩形条(201)共面且两两之间设置间距,所述矩形条(201)中至少有两个的长径比不同,n都为自然数且n大于等于3;所述矩形条的材质为石墨烯;所述形变部(202)设置于所述矩形条(201)两两之间首尾相接围成的环形中,所述形变部(202)为磁致伸缩材料;所述衬底层(10)和结构层(20)之间还设置有介质层(30)和贵金属层(40),所述贵金属层(40)位于靠近衬底层(10)的一侧,贵金属层(40)为贵金属薄膜,介质层(30)为磁致伸缩材料;所述矩形条(201)为多层相同大小、相同材质的石墨烯,石墨烯的层数沿着顺时针或者逆时针方向逐渐增减或者减小,使得结构层(20)变成三维的类螺旋结构,从而使所述结构层(20)在左旋圆偏振光和右旋圆偏振光的照射下透射率有更大的差异;

其中,在圆偏振光照射下,所述结构层(20)的表面激发表面等离激元效应;向所述结构层(20)施加外加磁场后,让所述结构层(20)表面的电荷回旋运动的方向发生改变,使得左旋和右旋圆偏振光照射下所述结构层(20)的折射率不同,也就是左旋和右旋圆偏振光照射下所述结构层(20)的透射率会产生差异,从而用该透射率的差异反映磁场的大小,进而实现对磁场的测量。

2.根据权利要求1所述的一种磁场的测量装置,其特征在于,所述矩形条(201)的长度为120nm‑1000nm。

3.根据权利要求2所述的一种磁场的测量装置,其特征在于,所述矩形条(201)的长径比为1/6‑1/2。

4.根据权利要求3所述的一种磁场的测量装置,其特征在于,所述矩形条(201)两两之间的间距小于120nm。

5.根据权利要求4所述的一种磁场的测量装置,其特征在于,所述矩形条(201)两两之间的间距不相同。

6.根据权利要求1所述的一种磁场的测量装置,其特征在于,所述衬底层(10)包括:硅衬底层、氮化硅衬底层或玻璃衬底层中的一种。