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专利号: 202110553754X
申请人: 中国计量大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-10-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,包括动环和静环,密封结构设置在动环或是静环上;其特征在于:包括环本体(2),所述环本体(2)上由内向外依次设置有第一圆形凹面、第一圆形台阶、第二圆形凹面和第二圆形台阶;

第一密封坝(1),所述第一密封坝(1)包括内侧鼓泡箔片(3)和第一环状盖体(9);所述内侧鼓泡箔片(3)表面设置有凸起的鼓泡(4),所述内侧鼓泡箔片(3)首尾相接沿周向分别均匀铺设在第一圆形凹面上,所述内侧鼓泡箔片(3)上方放置第一环状盖体(9),第二密封坝(25),所述第二密封坝(25)包括外侧鼓泡箔片(7)和第二环状盖体(17);所述外侧鼓泡箔片(7)表面设置有凸起的鼓泡(4),所述外侧鼓泡箔片(7)沿周向分别均匀铺设在第二圆形凹面上,所述外侧鼓泡箔片(7)上方放置第二环状盖体(17),所述第二环状盖体(17)上表面设有均匀分布的动压槽(10),中部箔片机构,所述中部箔片机构设置在第一圆形台阶上,所述中部箔片机构包括中部平箔片(5)和中部鼓泡箔片(6);所述中部鼓泡箔片(6)表面设置有凸起的鼓泡(4);中部平箔片(5)和中部鼓泡箔片(6)均是一端固定、另一端自由首尾沿周向铺设在第一圆形台阶上;所述中部鼓泡箔片(6)为多层,所述中部平箔片(5)铺在多层的中部鼓泡箔片(6)上方。

2.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:在第一圆形台阶内侧设有第一密封圈槽沟(11),第一密封圈(14)安装于所述第一密封圈槽沟(11)内以使第一密封坝密封;

在第一圆形台阶外侧设有第二密封圈槽沟(12);在第二圆形台阶内侧设有第三密封圈槽沟(13),第二密封圈(15)安装于所述第二密封圈槽沟(12)内、第三密封圈(16)安装于所述第三密封圈槽沟(13)内以使第二密封坝密封。

3.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:还包括第一防转机构,所述第一防转机构包括第一防转槽(19)、第二防转槽(20)和第一防转销(23);

所述第一防转槽(19)开设在所述第一环状盖体(9)的侧壁上;所述第二防转槽(20)开设在所述第一圆形台阶上;

所述第一防转销(23)的两端分别插入所述第一防转槽(19)和所述第二防转槽(20)使所述第一环状盖体(9)相对环本体(2)周向静止。

4.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:还包括第二防转机构,所述第二防转机构包括第三防转槽(21)、第四防转槽(22)和第二防转销(24);

所述第三防转槽(21)开设在所述第一圆形台阶外侧;所述第四防转槽(22)开设子在所述第二环状盖体(17)上;

所述第二防转销(24)的两端分别插入所述第三防转槽(21)和所述第四防转槽(22)使所述第二环状盖体(17)相对环本体(2)周向静止。

5.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:所述第二密封坝(25)上表面与第一密封坝(1)上表面齐平;所述第一密封坝(1)上表面低于中部箔片机构上表面0.1~5μm。

6.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:所述第一圆形台阶上开设有沿圆周的泄气孔(18),泄气孔(18)贯穿所述所述第一圆形台阶。

7.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:中部平箔片(5)固定端到自由端的圆周方向与气流的周向方向一致,顶层中部鼓泡箔片(6)的鼓泡(4)凸起高度沿固定端到自由端方向依次发生微米级的线性增高。

8.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:在环本体上开设“I”形槽(8),用于固定所述外侧鼓泡箔片(7)、中部平箔片(5)、中部鼓泡箔片(6)、内侧鼓泡箔片(2)。

9.根据权利要求1所述的耐高压低泄漏箔片端面气膜密封结构,其特征在于:在稳定运转过程中,所述的环本体(2)在受到外界轴向方向的压力作用时,第一密封坝(1)轴向位移量不大于所述第二密封坝(25)轴向位移量。