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专利号: 2021104426997
申请人: 杭州电子科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-06-16
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:底部设置有沿水流方向依次排列的多个隔板扰流组件;每个隔板扰流组件均包括一块或并排设置的多块隔板;沿着水流方向,各隔板扰流组件内的隔板与水流方向的夹角逐渐减小。

2.根据权利要求1所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:沿着水流方向,相邻两个隔板扰流组件的间距逐渐增大。

3.根据权利要求1或2所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:位于首端的隔板扰流组件内的隔板(5)竖直设置;除竖直的隔板(5)外,各隔板(5)的顶端向远离絮凝池入水口(1)的一侧倾斜。

4.根据权利要求1或2所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:位于首端的隔板扰流组件到絮凝池进水口的距离为x1=k1S;其中,S为絮凝池的总长度;系数k1的取值范围为0.05~0.15。

5.根据权利要求1所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:第i个隔板扰流组件与第i‑1个隔板扰流组件底部的间距xi=β+(m‑2)h;其中, h为隔板(5)的长度;i=2,3,…,n;l为位于首端的隔板扰流组件的底部与位于末端的隔板扰流组件的底部的间距;第m个隔板扰流组件中的隔板(5) 与水流方向的夹角其中,系数ξ的取值范围为3.3~6.5,m=2,3,…,n;Re为水流的雷诺数。

6.根据权利要求1或5所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:位于首端的隔板扰流组件的底部与位于末端的隔板扰流组件的底部的间距l=λS;其中,系数λ的取值范围为0.5~0.7。

7.根据权利要求1或5所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:所述的隔板(5)呈矩形;隔板(5)的长度h=kδ;其中,δ为絮凝池中水流的流动边界层厚度;系数k的取值范围为1~2。

8.根据权利要求1、2或5所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:所述的隔板扰流组件包括手柄(3)、连接杆(4)和隔板(5);连接杆(4)支承在絮凝池的底部,且轴线垂直于水流方向;连接杆(4)的一端端部伸出絮凝池外,且固定有手柄(3);隔板固定在连接杆(4)上;通过转动连接杆(4),能够调节各隔板(5)与絮凝池内水流流动方向的夹角。

9.根据权利要求8所述的一种强化底部絮凝效果的絮凝池,其特征在于:所述的连接杆(4)与絮凝池之间设置有锁止组件;锁止组件用于将调节到目标角度的连接杆(4)锁止,使得连接杆(4)上的隔板(5)在絮凝过程中保持夹角稳定。

10.一种强化底部絮凝效果的絮凝方法,其特征在于:步骤一、根据被絮凝水体的特点及絮凝池的长度和宽度,设定隔板扰流组件的数量n、每个隔板扰流组件中隔板(5)的数量y、相邻两个隔板扰流组件底部的间距xi和隔板扰流组件中的隔板(5)与水流方向的夹角αm;

并搭建如权利要求5所述的絮凝池;

步骤三、向底部絮凝效果的絮凝池的入水口注入被絮凝水体;被絮凝水体在经过各隔板扰流组件时被扰动,形成涡旋;被絮凝水体在涡旋作用下加速形成絮体结构;越靠近絮凝池的入水口1的涡旋越大,促进被絮凝水体快速絮凝;越靠近絮凝池的出水口的涡旋越小,避免被絮凝水体中已经形成的絮体被切碎,促进絮体的沉淀。