1.一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法，其特征在于，取溶剂，向溶剂中加入

2‑ ‑

NiCo‑PBA后，再同时加入S 阴离子源与OH阴离子源，混合均匀后，水浴保温一段时间，即得硫化氢氧化物双纳米框架材料；所述溶剂为水或乙醇中一种或两种混合。

2.根据权利要求1所述的一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法，其特征在于，

2‑ ‑

所述S 阴离子源为述Na2S、NaHS、K2S、(NH4)2S、或CH3CSNH2；OH阴离子源为NaOH或KOH。

3.根据权利要求1所述的一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法，其特征在于，

2‑ ‑

所述S 阴离子源与OH阴离子源的质量比为(0.01～100) : 1。

4.根据权利要求1所述的一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法，其特征在于， 

2‑

所述NiCo‑PBA 和S 阴离子源的质量比为(0.01～100) : 1。

5.根据权利要求1所述的一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法，其特征在于， ‑

所述NiCo‑PBA 和OH阴离子源的质量比为(0.01～100) : 1。

6.根据权利要求1所述的一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法，其特征在于，所述水浴温度为0～100℃，保温时间为15min‑8h。

7.基于权利要求1所述的硫化氢氧化物双纳米框架材料在制备析氧反应上的应用。