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专利号: 202110375836X
申请人: 南京师范大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-08-18
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种Pt凹立方体纳米晶的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将聚乙烯吡咯烷酮PVP、天冬氨酸加入去离子水中搅拌溶解;

(2)向上述混合液中加入H2PtCl6·6H2O,继续搅拌,调节溶液pH为9‑14;

(3)将溶液高温水热反应,反应后溶液离心洗涤得到样品;将样品干燥得到Pt凹纳米立方体。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中聚乙烯吡咯烷酮PVP与天冬氨酸的质量比例为7:1~13:1 。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中H2PtCl6·6H2O与天冬氨酸的质量比为0.4~0.6。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中使用KOH或者NaOH溶液调节溶液pH优选为10。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中高温水热反应的温度为

180‑220℃,时间为3.5‑4.5h。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中高温水热反应为将溶液转移至聚四氟乙烯为内衬的高压釜中,高温水热反应得到黑褐色悬浊液,将悬浊液在高速离心,沉淀用乙醇和丙酮混合溶液洗涤。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中将得到的样品在真空烘箱中60‑80℃干燥4‑5h,即可得到Pt凹纳米立方体。

8.一种权利要求1所述的Pt凹立方体纳米晶的制备方法所制备的Pt凹立方体纳米晶。

9.根据权利要求8所述的Pt凹立方体纳米晶,其特征在于,所述Pt纳米晶为Pt凹纳米立方体,其内部具有凹陷结构,具有高指数晶面,粒径处于16nm至21nm之间。

10.一种权利要求1所述Pt凹立方体纳米晶的制备方法所制备的Pt凹立方体纳米晶在电催化领域中的应用。