1.一种增透疏水涂层，其特征在于，包括二氧化硅层和其上的甲基‑MQ硅树脂层，其中二氧化硅层采用溶胶‑凝胶法制得；增透疏水涂层在 300‑900nm 光波段范围内，透过率高于空白玻璃的透过率，在 552nm 处透过率达到 99.539%；其中二氧化硅层制备时，原料为正硅酸四乙酯，去离子水，乙醇和氨水，体积比为4～6:0.6‑1.3:45～51:0.5～1.1；甲基‑MQ硅树脂层制备前，将其与四氢呋喃按0.5‑1.5：2混合均匀后使用；

该增透疏水涂层制备包括以下步骤：

S1、将正硅酸四乙酯，无水乙醇，去离子水和氨水进行混合，磁力搅拌20～30h，得到淡蓝色溶胶，在室温下陈化5～15天，得二氧化硅溶胶，备用；

S2、将甲基‑MQ硅树脂和四氢呋喃混合，在25～30℃磁力搅拌0.5‑1h，得疏水溶液，备用；

S3、将清洗干净的基材在浸渍提拉镀膜机上提拉镀膜S1中得到的二氧化硅溶胶，使其二氧化硅附着在基材上形成二氧化硅增透膜，干燥；

S4、将S2中的疏水溶液刮涂在S3中二氧化硅增透膜上，处理后的基材进行烘干和退火，得到高疏水涂层。

2.根据权利要求1所述的增透疏水涂层，其特征在于：所述基材为玻璃、树脂材料或者金属材料。

3.根据权利要求1所述的增透疏水涂层，其特征在于：S3中基材在提拉镀膜之前，依次采用洗涤剂清洗、超声清洗、普通水清洗、超声清洗、乙醇清洗、去离子水清洗后烘干，最后用等离子体机进行表面处理。

4.根据权利要求1所述的增透疏水涂层，其特征在于：S3中浸渍提拉处理时，先将基材浸渍在二氧化硅溶胶中6‑10min，然后用500～1500μm/s的速度匀速提拉；S4中疏水溶液刮涂时厚度在45 55μm。

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5.根据权利要求1所述的增透疏水涂层，其特征在于：S3中干燥温度为100～150℃，时间为0.1～0.5h。

6.根据权利要求1所述的增透疏水涂层，其特征在于：S4中烘干温度为100～150℃，时间为0.2～0.6h；退火时，在马弗炉中320～450℃下退火5～20min。

7.权利要求1‑6任意一项所述增透疏水涂层在光伏电池板中的应用。