1.一种制备具有响应性隐形图案的光子晶体材料的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)制备聚苯乙烯@二氧化硅光子晶体：将苯乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、引发剂分散在水中进行聚合反应，得到聚苯乙烯微球；然后将所得的聚苯乙烯微球与硅源、氨水加入到乙醇中进行溶剂热反应，反应结束后，收集固体，即得聚苯乙烯@二氧化硅胶体；

将所得聚苯乙烯@二氧化硅胶体配置成悬浮液，然后将基板垂直放置在悬浮液中，垂直沉积，即在基板表面形成聚苯乙烯@二氧化硅光子晶体；

(2)将所得聚苯乙烯@二氧化硅光子晶体进行煅烧，除去其中的聚苯乙烯核，得到中空二氧化硅光子晶体，记作HSPCs；

(3)将含双键的硅烷偶联剂分散于乙醇中，获得分散液；然后将所得的HSPCs浸泡于分散液中，并加入氨水进行反应，得到烯烃修饰的中空二氧化硅光子晶体；

(4)将巯基化合物、光引发剂溶解于溶剂中，配制成巯基反应溶液；将巯基反应溶液滴加于步骤3所得的烯烃修饰的中空二氧化硅光子晶体的部分区域上，置于紫外光下进行迈克尔加成反应，形成巯基改性区域，即得具有响应性隐形图案的光子晶体材料；其中，巯基改性区域即为响应性隐形图案。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(4)中所述巯基化合物选自：1H,1H,

2H,2H‑全氟癸烷硫醇，半胱胺盐酸盐、十八烷硫醇。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(4)中所述巯基反应溶液中巯基化合物的质量浓度为10wt％‑30wt％。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述聚苯乙烯微球与硅源的质量比为1:(0.5‑2)。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，骤(3)中所述含双键的硅烷偶联剂与乙醇的体积比为1:5‑1:20。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述聚苯乙烯微球相对乙醇质量浓度为4‑8mg/mL。

7.根据权利要求1‑6任一项所述的方法，其特征在于，步骤(1)所述聚苯乙烯@二氧化硅胶体悬浮液的质量浓度为0.12wt％‑0.25wt％。

8.权利要求1‑7任一项所述方法制备得到的一种具有响应性隐形图案的光子晶体材料。

9.权利要求8所述的具有响应性隐形图案的光子晶体材料在信息加密领域中的应用。

10.权利要求8所述的具有响应性隐形图案的光子晶体材料在防伪图案制备中的应用。