1.一种发泡聚电解质薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：步骤（1）：分别将聚阳离子和聚阴离子溶解于水中，得到聚阳离子水溶液和聚阴离子水溶液；

步骤（2）：将基底材料在步骤（1）所得的聚阳离子水溶液中浸泡1～120分钟，再放入步骤（1）所得的聚阴离子水溶液中浸泡，从而完成一个沉积周期；重复上述步骤，通过层层自组装在基底材料上完成多个沉积周期，得到厚度均匀的聚电解质薄膜；

步骤（3）：将聚电解质薄膜浸泡在苯基叠氮发泡剂水溶液中，利用静电吸附作用富集发泡剂；

步骤（4）：将聚电解质薄膜浸泡在水中进行塑化处理；

步骤（5）：在紫外光照射下，引发发泡剂中叠氮基团分解产生氮气，通过薄膜内部气体生成和聚集，形成微孔结构，得到发泡聚电解质薄膜。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）中：所述聚阳离子为聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺、明胶、聚二烯丙基二甲基胺、鱼精蛋白、壳聚糖和聚赖氨酸中的至少一种；

所述聚阴离子为聚丙烯酸、海藻酸、透明质酸、聚乙烯醇、肝素和聚甲基丙烯酸中的至少一种。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述聚阳离子为聚乙烯亚胺，其摩尔分子量为1000～100000；所述聚阴离子为聚丙烯酸，摩尔分子量为10000～500000。

4.如权利要求1‑3之一所述的制备方法，其特征在于：所述聚阳离子水溶液的浓度为1～100mg/mL，pH值为7～11；

所述聚阴离子水溶液的浓度为1～100mg/mL，pH为1～6。

5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（2）中：所述基底材料为硅片、玻璃、石英、金属、氟化钙、陶瓷和塑料中的至少一种。

6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（2）中：每次浸泡1～120分钟；

每次浸泡完成取出基底材料后，用水冲洗并用氮气吹干；

重复沉积3～500次。

7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（3）中：所述苯基叠氮发泡剂为4,

4'‑二叠氮二苯乙烯‑2,2'‑二磺酸二钠、对叠氮苯甲酸、4‑叠氮苯胺盐酸盐和2‑叠氮苯甲酸中的至少一种。

8.如权利要求1或7所述的制备方法，其特征在于：所述苯基叠氮发泡剂水溶液的浓度为1～50mg/mL，pH值为1～12，浸泡时间为1～180分钟。

9.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（4）中，所述塑化处理时间为1～60分钟。

10.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（4）中，紫外光照波长为245～2

405nm，照射功率为100～5000mW/cm，照射时长为10～600秒。