1.一种用于研磨下摆机的光学镜片清洗装置，包括清洗水箱，其特征在于：所述清洗水箱顶部设有进出口，所述进出口处设有推拉门，清洗水箱内设有喷水管、吹气管和镜片固定机构，所述镜片固定机构包括旋转电机、夹指气缸、连接环、旋转端盖，所述旋转电机设于清洗水箱后侧，旋转电机的输出轴上连接有连接架，所述夹指气缸固定于连接架上，夹指气缸上设有两个夹爪，所述连接环固定于清洗水箱后侧壁上，所述清洗水箱后侧壁上设有与连接环同轴的通孔，所述旋转端盖设于清洗水箱内且与连接环同轴设置，旋转端盖与连接环转动密封配合，旋转端盖通过从通孔穿过的连接板与连接架连接，旋转端盖上设有分别与两个夹爪滑动配合的滑孔。

2.根据权利要求1所述的一种用于研磨下摆机的光学镜片清洗装置，其特征在于：所述推拉门连接有牵引板一，所述牵引板一通过转轴转动连接于清洗水箱侧壁上，所述转轴伸出清洗水箱外侧且连接有牵引板二，所述牵引板二连接有推拉气缸。

3.根据权利要求1所述的一种用于研磨下摆机的光学镜片清洗装置，其特征在于：所述连接环上间隔设有若干个环形挡板一，相邻环形挡板一之间形成环形插槽，所述旋转端盖上间隔设有若干个环形挡板二，所述环形挡板二与环形挡板一交错设置且插入相应的环形插槽内。

4.根据权利要求1所述的一种用于研磨下摆机的光学镜片清洗装置，其特征在于：所述滑孔前侧设有挡块，所述挡块固定于夹爪上。

5.根据权利要求1所述的一种用于研磨下摆机的光学镜片清洗装置，其特征在于：还包括摆盘机构，所述摆盘机构包括放料盘、X轴直线模组、Y轴直线模组、摆盘气缸、吸嘴，所述放料盘设于清洗水箱正上方，所述X轴直线模组设于放料盘上方，X轴直线模组通过X轴固定板连接于Y轴直线模组的Y轴滑块上，所述Y轴直线模组设于放料盘的一侧，所述摆盘气缸通过Z轴固定板连接于X轴直线模组的X轴滑块上，所述吸嘴连接于摆盘气缸的伸缩端，吸嘴上设有负压吸盘。

6.根据权利要求1所述的一种用于研磨下摆机的光学镜片清洗装置，其特征在于：还包括擦拭机构，所述擦拭机构包括擦拭气缸、擦拭海绵，所述擦拭气缸设于清洗水箱一侧，擦拭气缸的伸缩端伸入清洗水箱内并连接有支撑板，所述擦拭海绵通过连接块固定于支撑板上，所述连接块的两侧设有挤水辊，所述挤水辊连接于挤水支架上，所述挤水支架连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆固定于支撑板上。