1.一种便于清洗的保温反应釜，包括搅拌装置(100)、供水装置(200)、反应釜(300)、真空泵装置(400)、集成控制器(500)，其特征在于：所述反应釜(300)包括壳体(310)以及底板(360)，所述壳体(310)为内部中空结构，所述搅拌装置(100)包括固定环(130)，所述壳体(310)外部一表面设有第一安装槽，所述固定环(130)与第一安装槽连接，所述供水装置(200)包括进水管(220)，所述壳体(310)外部一表面设有旋转孔，所述进水管(220)与旋转孔旋转配合，所述真空泵装置(400)包括真空管(430)以及支撑架(440)，所述壳体(310)外部周侧面设有通孔，所述真空管(430)与通孔滑动配合，所述底板(360)一表面设有第二安装槽，所述支撑架(440)与第二安装槽连接，所述底板(360)一表面设有第一连接槽，所述集成控制器(500)与第一连接槽连接。

2.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述搅拌装置(100)还包括电机(110)、搅拌轴(120)以及扇叶(140)，所述搅拌轴(120)一端与电机(110)旋转配合，所述搅拌轴(120)与固定环(130)滑动配合，所述搅拌轴(120)周侧面阵列有若干卡槽，若干所述扇叶(140)均与卡槽连接。

3.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述供水装置(200)还包括水泵(210)、第一电磁阀(230)、分流管(240)、高压喷头(250)以及液箱(260)，所述进水管(220)一端与液箱(260)一表面连接，所述第一电磁阀(230)安装于进水管(220)周侧面，所述液箱(260)一表面设有连接孔，所述分流管(240)与连接孔连接，所述分流管(240)一表面阵列有若干第二连接槽，若干所述高压喷头(250) 均与第二连接槽连接。

4.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述反应釜(300)还包括进料管(320)、第二电磁阀(330)、出料管(340)、第三电磁阀(350)、支撑柱(370)以及温度传感器(380)，所述进料管(320)安装于壳体(310)外部一表面，所述第二电磁阀(330)安装于进料管(320)周侧面，所述壳体(310)外部一表面设有第三连接槽，所述出料管(340)与第三连接槽连接，所述第三电磁阀(350)安装于出料管(340)周侧面，所述底板(360)一表面阵列有若干第一固定槽，若干所述支撑柱(370)一端均与第一固定槽连接，若干所述支撑柱(370)另一端均与壳体(310)外部一表面连接，所述温度传感器(380)安装于壳体(310)外部一表面。

5.根据权利要求1所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述真空泵装置(400)还包括真空泵(410)以及气箱(420)，所述真空管(430)一端安装于气箱(420)一表面，所述真空泵(410)一端与气箱(420)一表面连接。

6.根据权利要求2所述的一种便于清洗的保温反应釜，其特征在于：所述电机(110)、水泵(210)、第一电磁阀(230)、第二电磁阀(330)、第三电磁阀(350)以及真空泵(410)均与集成控制器(500)电性连接。