1.一种二极管残胶清除装置，其特征在于：包括清洗台和控制模块，所述清洗台上环绕设有传送带，所述传送带上均匀设有若干个二极管夹具，所述传送带的一端设有主动轴，所述传送带的另一端设有从动轴，所述主动轴与所述从动轴分别通过轴承与所述清洗台的两端连接，所述主动轴的一端连接有电机，所述电机固定设于所述清洗台一侧，所述清洗台上方设有清洗架，所述清洗架一端设有进料口，所述清洗架另一端设有出料口，所述清洗架顶部螺纹连接有调节螺杆，所述调节螺杆底端固定连接有电机，所述电机的输出轴连接有刀盘，所述刀盘底部均匀设有若干个清除刀，所述清洗架顶部设有喷淋头，所述清洗台中部设有清洗口，所述清洗台底部设有清洗液箱，所述清洗液箱内盛放有清洗液，所述清洗液箱侧壁的底部通过水管连接有水泵，所述水泵通过水管与所述喷淋头连接，所述电机和所述水泵分别与所述控制模块电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种二极管残胶清除装置，其特征在于：所述清洗口两端分别设有一个辊轴，每个所述辊轴上分别设有两个滚轮，两个所述滚轮间距与所述传送带相配合。

3.根据权利要求1所述的一种二极管残胶清除装置，其特征在于：所述调节螺杆顶部设有顶紧螺母。

4.根据权利要求1所述的一种二极管残胶清除装置，其特征在于：所述清洗液箱顶部设有过滤网。

5.根据权利要求4所述的一种二极管残胶清除装置，其特征在于：所述过滤网为V形。