1.胶圈后处理设备，其特征包括后处理室(1)，后处理室(1)内下部依次设置有若干个化学药剂池(2)，后处理室(1)内上部两侧设有横移导轨(3)，两侧带有移动轮(7)的移动支架(4)与横移导轨(3)滑动连接，两侧移动轮(7)通过A连杆(6)连接，移动支架(4)上设有横移电机(5)，横移电机(5)传动连接A连杆(6)，移动支架(4)中部向下设有导杆(13)，导杆(13)上滑动连接有升降架(12)，升降架(12)连接放置架(14)，移动支架(4)上还设有提升电机(9)，提升电机(9)传动连接B连杆(10)，B连杆(10)上绕设有升降带(11)，升降带(11)端部穿过移动支架(4)连接升降架(12)顶部，放置架(14)上可拆卸连接胶圈支架(15)。

2.如权利要求1所述的胶圈后处理设备，其特征是所述的移动支架(4)侧面还设有辅助轮(8)，辅助轮(8)与横移导轨(3)侧面接触。

3.如权利要求1所述的胶圈后处理设备，其特征是所述的胶圈支架(15)包括表面均匀开有带有孔洞(18)的板体(16)，板体(16)顶面上均匀设有若干个竖杆(17)，胶圈支架(15)底部设有与放置架(14)形状匹配的凹槽。

4.如权利要求3所述的胶圈后处理设备，其特征是所述的竖杆17高度低于胶圈段的长度，每个胶圈套设在1个竖杆(17)上或2个相邻的竖杆(17)上。