1.一种防分散的高分子涂料研磨装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座上设置有下转盘（2），所述下转盘（2）的上方设置有升降式研磨组件；

所述升降式研磨组件包括上转盘（30）和带动上转盘（30）升降的升降件（40）；

所述下转盘（2）内凹设置有与上转盘相对应的研磨腔（21），并且研磨腔（21）内设置有过滤板（22），将研磨腔（21）分隔成上腔（211）和下腔（212）；

所述上转盘（30）和下转盘（2）的旋转方向相反。

2.根据权利要求1所述的一种防分散的高分子涂料研磨装置，其特征在于：还包括用于供应研磨腔（21）进料的下料装置（50），所述下料装置（50）包括与上转盘（30）相连通的进料管（51）和旋转接头（52）。

3.根据权利要求2所述的一种防分散的高分子涂料研磨装置，其特征在于：所述进料管（51）为弹性伸缩的波纹管，并且弹性伸缩的波纹管与升降件（40）相固定。

4.根据权利要求2所述的一种防分散的高分子涂料研磨装置，其特征在于：所述升降件（40）包括安装板（41）和对称设置在安装板（41）两侧的液压缸（42）；

所述安装板（41）上设置有用于进料管（51）穿过的通孔（411），并且通孔（411）的直径大于进料管（51）的外径。

5.根据权利要求1所述的一种防分散的高分子涂料研磨装置，其特征在于：所述上转盘（30）上设置有与进料管相连通下料孔（301）；所述下料孔（301）的出口端为喇叭结构。

6.根据权利要求1所述的一种防分散的高分子涂料研磨装置，其特征在于：所述上转盘（30）的外径小于研磨腔（21）的内径，并且上转盘（30）的厚度为研磨腔（21）深度的三分之一高。

7.根据权利要求1所述的一种防分散的高分子涂料研磨装置，其特征在于：所述下腔（212）底部设置有用于出料的出料管（6），所述出料管（6）通过旋转接头连通所述的下腔（212）。