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专利号: 2020115437666
申请人: 武汉工程大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-01
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔,其特征在于:所述基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔由银纳米颗粒薄膜层、银纳米颗粒以及吸附在所述银纳米颗粒上的J聚体染料层构成,所述银纳米颗粒薄膜层为基底上的覆盖层,所述基底为氧化无机物,所述的基底上均匀设置有银纳米颗粒堆积形成的薄膜层;所述银纳米颗粒薄膜层和银纳米颗粒上吸附有J聚体染料层。

2.如权利要求1所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔,其特征在于:所述氧化无机物为二氧化硅。

3.如权利要求1所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔,其特征在于:所述银纳米颗粒粒径范围为50‑150nm。

4.如权利要求1所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔,其特征在于:所述银纳米颗粒堆积形成的薄膜层的厚度为60‑100nm。

5.如权利要求1所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔,其特征在于:所述J聚体染料激元的紫外‑可见吸收光谱的吸收峰与银纳米颗粒的激子散射峰的波长差绝对值≤50nm;所述J聚体染料层的厚度为1nm‑10nm。

6.如权利要求5所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔,其特征在于:所述J聚体染料为花菁染料或亚甲基蓝染料。

7.一种如权利要求1‑6任一所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔的制备方法,其特征在于,包含如下步骤:

1)制备银纳米颗粒薄膜层

将基底浸没在清洁水溶液后,取出再进行干燥,以去除基底表面的水分;

使用化学气相沉积的方法,在基底上得到银纳米颗粒薄膜层;

2)将J聚体染料粉末溶于溶剂中,制得的J聚体染料溶液;

3)将J聚体染料溶液旋涂至银纳米颗粒薄膜层上,形成J聚体染料层;

4)将银纳米颗粒滴涂至J聚体染料层,静置,用去离子水清洗,得到银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔。

8.如权利要求7所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔的制备方法,其特征‑4在于:所述步骤2)中,J聚体染料溶液的溶剂为去离子水,染料溶液摩尔浓度为1.5×10 ‑‑1

1.5×10 mol/L。

9.如权利要求7所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中旋涂转速为1000‑3000rpm,旋涂时间为30‑60s,旋涂温度为20‑27℃。

10.如权利要求7所述的基于银纳米颗粒‑J聚体染料等离子体微腔的制备方法,其特征在于:所述步骤4)中,银纳米颗粒是以去离子水作为分散剂,配置浓度为60‑100mg/mL的银纳米颗粒组装体分散液,搅拌,超声混合均匀得到;所述银纳米颗粒和J聚体染料的体积比为3:1;静置时间为10‑30s。