1.一种离子液体基纳米流体切削液，由离子液体和纳米粒子组成，所述纳米粒子在离子液体纳米流体中的质量分数为0.002％～0.5％；所述纳米粒子包括石墨烯、碳纳米管、二硫化钼、二硫化钨和氮化硼中的一种或多种；

所述离子液体的阳离子含咪唑基对应的阳离子；

+ + +

所述含咪唑基对应的阳离子为[EMIM] 、[BMIM] 和[PMIM] 中任意一种或多种，离子液‑ ‑ ‑ ‑体的阴离子选自[BF4]、[PF6]、[Ac]和[TFSI]中任意一种或多种。

2.根据权利要求1所述的离子液体基纳米流体切削液，其特征在于：所述离子液体为[BMIM]BF4、所述纳米粒子为石墨烯。

3.根据权利要求1所述的离子液体基纳米流体切削液，其特征在于：所述离子液体为[PMIM]BF4、所述纳米粒子为碳纳米管。

4.根据权利要求1所述的离子液体基纳米流体切削液，其特征在于：所述离子液体为[EMIM]Ac、所述纳米粒子为二硫化钼。

5.根据权利要求1所述的离子液体基纳米流体切削液，其特征在于：所述离子液体为[EMIM]TFSI、所述纳米粒子为二硫化钨。

6.一种权利要求1所述离子液体基纳米流体切削液的制备方法，包括如下步骤：将纳米粒子加入到离子液体中，混合物先进行超声分散，再进行均质处理后形成均匀稳定的悬浮液即得到离子液体基纳米流体切削液。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述超声分散的过程为：将混合物倒入超声容器内，用250W功率超声5h；所述的均质处理处理过程为：将混合物加入均质机的罐内，在30Mpa的压力下均质处理1h。