1.一种自动电解抛光设备，其特征在于：所述自动电解抛光设备包括箱体以及将箱体分为上下两层的工作台，箱体的上层包括二维运动组件和排风装置，箱体的下层包括电箱和储物仓；箱体上层前侧设有对开式拉门，上层的左右两侧由透明玻璃进行密封，下层的左右两侧通过不锈钢进行密封，下层的前侧设有对开式拉门，箱体顶部通过悬臂与控制箱连接；所述控制箱与电箱通过电线连接；

所述二维运动组件密封在不锈钢壳体内，二维运动组件包括水平方向运动组件和竖直方向运动组件；

所述水平方向运动组件包括丝杆滑台，第一直流减速电机固定在丝杆滑台的前端，直流减速电机轴与滑台丝杆通过联轴器连接，限位传感器固定在丝杆滑台的两端；

所述丝杆滑台的丝杆转动带动第一滑块在水平方向运动；

所述第一滑块通过第一连接板与第二直流减速电机进行连接；

第一滑块下方装有第二连接板，第二连接板与尼龙拖链通过螺栓连接，使滑块可以拖动尼龙拖链进行水平运动；

所述竖直方向运动组件包括竖直支架、第二直流减速电机，第二直流减速电机的轴上装有绕线盘，绕线盘通过机米螺栓与直流减速电机的轴进行刚性连接；绕线盘于缠绕钢用丝绳，钢丝绳另一端与滑块的上端连接，滑块下端连接钢丝绳，钢丝绳另一端与夹具块连接；

所述竖直支架通过螺栓连接在滑块上，竖直支架内部右侧有滑槽，滑块被卡放在滑槽中；内部左侧有槽孔用于固定上下限位传感器；

所述工作台材料为耐腐蚀材料，工作台右侧为电解抛光槽，左侧为清洗槽，清洗槽下方装有超声波振子；

所述电解抛光槽包括反应槽、反应槽外部有冷却水槽，冷却水槽侧面装有温度传感器、下方装有半导体制冷模块和排水阀；反应槽内部有U型铜板，聚四氟乙烯板放置在U型铜板与反应槽壳体中间；

所述电箱固定于机箱底板上；所述电箱中包括PLC、抛光反应所用直流电源、超声波发生模块。

2.根据权利要求1所述的自动电解抛光设备，其特征在于：所述控制箱上配有触摸屏、总电源开关旋钮、启动旋钮、停止旋钮、直流电源启动旋钮、直流电源调节模块。