1.一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，常温环境下，将有机硅烷前驱体与阳离子光引发剂搅拌溶解混合均匀后，在基底上均匀涂抹；放置在装有紫外灯的密闭装置中，再通入有机溶剂的水溶液蒸汽环境中光照固化，得到有机聚硅烷超疏水涂层；

所述有机硅烷前驱体的分子式为Cl3SiCnH2n+1，其中n为8、10、12、16或18。

2.根据权利要求1所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂的水溶液蒸汽中，有机溶剂与水的摩尔比为1：0.1 10。

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3.根据权利要求2所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为丙酮。

4.根据权利要求1所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，通入所述有机溶剂的水溶液蒸汽的压缩空气流量为：5mL/min 50mL/min。

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5.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述硅烷前驱体与所述阳离子光引发剂的质量比为1：0.01 0.05。

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6.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，2

所述光照固化的功率为0.5 200mW /cm，时间为10‑60min。

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7.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述阳离子光引发剂为碘鎓盐。

8.根据权利要求7所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述碘鎓盐为双(十二烷基苯基)碘鎓六氟磷酸盐。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述有机硅烷前驱体为辛基三氯硅烷、十八烷基三氯硅烷、十六烷基三氯硅烷、十二烷三氯硅烷或葵基三氯硅烷。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所用基底为玻璃、硅片或PET。