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专利号: 2020108535950
申请人: 苏州赛源光学科技有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:授权未缴费
更新日期:2025-08-18
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种紫外双波段曝光镜头,包括前透镜组、光阑以及后透镜组,所述光阑位于所述前透镜组及所述后透镜组之间,其特征在于:所述前透镜组包括依次设置的第一透镜,所述第一透镜为双凸透镜;第二透镜,所述第二透镜为平凸透镜;第三透镜,所述第三透镜为凹凸透镜;第四透镜,所述第四透镜为平凹透镜;所述后透镜组包括依次设置的第五透镜,所述第五透镜为凹凸透镜;第六透镜,所述第六透镜为平凸透镜。

2.根据权利要求1所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述前透镜组前为物方,所述后透镜后为像方;或者所述前透镜组前为像方,所述后透镜后为物方。

3.根据权利要求2所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述第一透镜靠近物方表面的曲率半径大于靠近像方表面的曲率半径。

4.根据权利要求2所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述第二透镜靠近物方表面为凸面,靠近像方表面为平面。

5.根据权利要求2所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述第三透镜靠近物方表面为凸面,靠近像方表面为凹面。

6.根据权利要求5所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述凸面的曲率半径小于所述凹面的曲率半径。

7.根据权利要求2所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述第四透镜靠近物方表面为平面,靠近像方表面为凹面。

8.根据权利要求2所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述第五透镜靠近物方表面为凹面,靠近像方表面为凸面。

9.根据权利要求8所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述凸面的曲率半径小于所述凹面的曲率半径。

10.根据权利要求2所述的紫外双波段曝光镜头,其特征在于:所述第六透镜靠近物方表面为凸面,靠近像方表面为平面。