1.一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述焙烧分散一体装置包括：

焙烧炉体(1)，工作时焙烧炉体(1)内部处于高温状态，将纳米二氧化硅粉体置于焙烧炉体(1)内进行焙烧；

分散组件(2)，所述分散组件(2)配置于焙烧炉体(1)内部，用于对纳米二氧化硅粉体进行分散处理，所述分散组件(2)包括滚动筒(21)和隔板(23)以及分散筒(25)，所述滚动筒(21)转动配置于焙烧炉体(1)内部，多个所述隔板(23)固定配置于滚动筒(21)的内壁上，所述分散筒(25)配置有多个贯穿筒壁的网孔，且配置于滚动筒(21)内部，所述隔板(23)与分散筒(25)将滚动筒(21)分割成多个焙烧空间(24)；

驱动组件(5)，所述驱动组件(5)配置于焙烧炉体(1)内部，用于驱动滚动筒(21)转动；

传动组件(4)，所述传动组件(4)配置于焙烧炉体(1)内部，所述驱动组件(5)通过传动组件(4)驱动滚动筒(21)转动。

2.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述驱动组件(5)包括安装管(51)和风轮(52)以及压力阀(53)，所述安装管(51)垂直固定配置于焙烧炉体(1)内部，且上端与焙烧炉体(1)外部连通，所述风轮(52)转动配置于安装管(51)上端内部，所述压力阀(53)配置安装管(51)内部，且处于风轮(52)下方，所述安装管(51)内装设有液体，所述液体的沸点低于焙烧温度，且处于压力阀(53)下方，所述风轮(52)通过传动组件(4)与滚动筒(21)连接。

3.根据权利要求2所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述传动组件(4)包括蜗杆(41)和蜗轮(42)，所述蜗杆(41)转动配置于安装管(51)上，所述风轮(52)固定套设在蜗杆(41)上，所述蜗轮(42)固定套设在滚动筒(21)上，所述蜗杆(41)与蜗轮(42)啮合连接。

4.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述焙烧分散一体装置还包括：

支撑组件(3)，所述支撑组件(3)用于支撑分散组件(2)。

5.根据权利要求4所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述支撑组件(3)包括支撑杆(31)和转动轮(32)，所述支撑杆(31)固定配置于焙烧炉体(1)底壁上，所述转动轮(32)转动配置在支撑杆(31)上端，且与滚动筒(21)滚动接触。

6.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述焙烧分散一体装置还包括：

循环组件(6)，所述循环组件(6)用于冷却循环安装管(51)内的液体。

7.根据权利要求6所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述循环组件(6)包括出气管(61)和冷却箱(62)以及回液管(63)，所述冷却箱(62)配置于焙烧炉体(1)外部，所述安装管(51)上端通过出气管(61)与冷却箱(62)上端连通，所述冷却箱(62)下端通过回液管(63)与安装管(51)下端连通，所述回液管(63)内配置有单向阀(64)，所述单向阀(64)由冷却箱(62)通向安装管(51)。

8.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，多个所述隔板(23)沿滚动筒(21)周向均匀分布，且沿滚动筒(21)径向延伸，多个所述隔板(23)远离滚动筒(21)的一端形成了与滚动筒(21)同心的圆形轨迹(22)，所述分散筒(25)转动配置于圆形轨迹(22)内，所述隔板(23)端部与分散筒(25)滑动接触，所述分散筒(25)下半圆质量大于上半圆，且上半圆侧壁具有第一网孔(251)，下半圆侧壁具有第二网孔(252)，所述第一网孔(251)孔径大于第二网孔(252)。

9.根据权利要求8所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述隔板(23)靠近分散筒(25)的一端转动配置有转动辊(232)，所述转动辊(232)与分散筒(25)滚动接触。

10.根据权利要求1所述的一种纳米二氧化硅粉体制备用焙烧分散一体装置，其特征在于，所述分散筒(25)的直径小于圆形轨迹(22)直径，所述隔板(23)靠近分散筒(25)的一端嵌设配置有第一磁体(231)，所述分散筒(25)侧壁上固定配置有多个第二磁体(253)，多个所述第二磁体(253)与多个所述第一磁体(231)处于同一垂直面上，相邻两个所述第二磁体(253)的磁极分布相反。