1.一种应用于6G波分复用系统的太赫兹分波器，其特征在于，包括图案层(1)和介质层(2)，图案层由N×N个双开口方环结构单元(3)周期性排列组成，图案层(1)紧贴于介质层(2)表面；

所述双开口方环结构单元(3)由一个双开口方环(31)和一个金属线(32)组成，所述金属线(32)位于双开口方环(31)的开口位置；

所述金属线(32)为长方体，金属线(32)的长比双开口方环(31)的边长更长；

双开口方环(31)沿水平方向左右两侧均设置相同宽度的开口；

所述金属线(32)水平放置在双开口方环(31)的开口位置，金属线(32)左侧超出双开口方环(31)部分的长度与金属线(32)右侧超出双开口方环(31)部分的长度相等；

所述6G波分复用系统为0.120THz和0.300THz通信窗口的分波；

双开口方环(31)环宽为：15μm～20μm，外侧边长为200μm～300μm；

金属线(32)长度为：200μm～300μm，宽为：1μm～10μm，厚度为：0.1μm～0.3μm。

2.根据权利要求1所述的一种应用于6G波分复用系统的太赫兹分波器，其特征在于，所述介质层(2)的材料为石英晶体、聚酰亚胺、硅的一种，介质层(2)厚度为25μm～100μm。

3.根据权利要求1所述的一种应用于6G波分复用系统的太赫兹分波器，其特征在于，图案层(1)材料为金、银、铜中的一种，图案层(1)厚度为0.1μm～0.3μm。

4.根据权利要求1所述的一种应用于6G波分复用系统的太赫兹分波器，其特征在于，双开口方环结构单元(3)周期性排列的周期为280μm～300μm。

5.一种如权利要求1所述的应用于6G波分复用系统的太赫兹分波器的制作方法，所述

6G波分复用系统为0.120THz和0.300THz通信窗口的分波，其特征在于，包括以下步骤：T1.清洗光刻板和介质层；

T2.将烘干后的介质层表面涂覆HMDS后进行涂胶和前烘；

T3.紫外曝光检查匀胶石英片与掩模板曝光区对齐后，开始曝光；

T4.将预制的掩膜版上的图案层图形转移到介质层的光刻胶上，再使用3038正胶显影液，显影时间控制在45秒得到样本；

T5.先去除样本上的光胶并沉积金属薄膜；

T6.最后对样本进行裂片处理。

6.根据权利要求5所述的一种应用于6G波分复用系统的太赫兹分波器制作方法，其特征在于，为了保护样本上沉积的金属薄膜，裂片之前在有金属的一面涂上光刻胶，再将样本贴在蓝膜上，按照滤波图形的尺寸要求进行切割。