1.一种间距可控的化学机械研磨头，其特征在于：包括研磨平台(10)、研磨垫(20)和研磨头本体(30)；研磨垫(20)固定在研磨平台(10)的上端面上并且研磨垫(20)随着研磨平台(10)一同旋转；研磨垫(20)的直径小于研磨平台(10)的直径；研磨头本体(30)升降设置在研磨垫(20)的正上方；研磨头本体(30)包括圆柱状的研磨支撑座(31)和圆环状的限位底环(34)；研磨支撑座(31)的底面中心成型有圆柱状的压头(32)；压头(32)用于研磨过程中压紧圆晶(40)；研磨支撑座(31)的底部升降设置有圆环状的研磨保持环(33)；研磨保持环(33)与压头(32)同轴设置并且压头(32)位于研磨保持环(33)内；研磨保持环(33)的内径大于圆晶(40)的直径；限位底环(34)与研磨保持环(33)同轴设置；限位底环(34)位于研磨保持环(33)的下侧并且两者之间的间隙可调设置；限位底环(34)的内径大于研磨垫(20)的直径；研磨平台(10)的上端面上成型有同轴设置的供限位底环(34)插入的限位环槽(100)；限位环槽(100)内设置有用于限制限位底环(34)的限位装置；限位底环(34)相对于研磨平台(10)旋转设置；当限位底环(34)位于限位环槽(100)内时，研磨保持环(33)的下端面位于压头(32)的底面与研磨垫(20)的上端面之间；

研磨保持环(33)的上端面上成型有若干圆周均匀分布的竖直导向组；竖直导向组包括一对径向内外分布的圆柱状的竖直导向杆(333)；竖直导向杆(333)竖直穿过研磨支撑座(31)；同一竖直导向组的一对竖直导向杆(333)的上端之间成型有上止位块(334)；竖直导向杆(333)的长度大于研磨支撑座(31)的厚度；

限位底环(34)的上端面上成型有若干圆周均匀分布的连接座(341)；连接座(341)的上端面上成型有连接螺杆(342)；研磨保持环(33)的外圆柱面上成型有若干圆周均匀分布的径向连接杆(332)；连接螺杆(342)竖直穿过相应侧的径向连接杆(332)；连接螺杆(342)上螺接有一对限位螺母(343)；一对限位螺母(343)夹紧径向连接杆(332)。

2.根据权利要求1所述的一种间距可控的化学机械研磨头，其特征在于：研磨保持环(33)由上部的圆环状的上环体和下部的若干圆周均匀分布的径向设置的阻挡块(331)组成。

3.根据权利要求2所述的一种间距可控的化学机械研磨头，其特征在于：阻挡块(331)的内外端分别成型为半圆柱面。

4.根据权利要求1所述的一种间距可控的化学机械研磨头，其特征在于：限位底环(34)的内圆柱面上成型有圆环槽状的内旋转支撑环槽(340)；限位装置包括若干圆柱均匀分布的弹簧柱塞(11)；弹簧柱塞(11)径向安装在限位环槽(100)的内圆柱面上；内旋转支撑环槽(340)的形状与弹簧柱塞(11)的钢珠配合。

5.根据权利要求4所述的一种间距可控的化学机械研磨头，其特征在于：研磨平台(10)的外圆柱面上成型有若干圆周均匀分布的径向设置的调节螺纹孔(101)；调节螺纹孔(101)的内侧端与限位环槽(100)连通；调节螺纹孔(101)内螺接有外限位座(12)；外限位座(12)包括螺接在调节螺纹孔(101)的外支撑座(121)；外支撑座(121)的内侧端弹性伸缩设置有外限位柱(122)；外限位柱(122)的内侧端呈半球状；限位底环(34)的外圆柱面上成型有圆环槽状的外旋转支撑环槽(3400)；外旋转支撑环槽(3400)的形状与外限位柱(122)的内侧端配合。

6.根据权利要求5所述的一种间距可控的化学机械研磨头，其特征在于：外支撑座(121)的外侧端面中心成型有十字形状的驱动槽(1210)。