1.一种石膏氯离子控制系统，其特征在于，包括：

真空皮带脱水机，用于带动石膏移动，并将石膏滤液混合物输送至排气排水子系统，将石膏冲洗水混合物输送至所述排气排水子系统和回收喷洒子系统；

排气排水子系统，连接所述真空皮带脱水机，用于将所述石膏滤液混合物以及所述石膏冲洗水混合物中的空气排出；以及回收喷洒子系统，连接所述排气排水子系统和所述真空皮带脱水机，用于回收所述排气排水子系统提供的排水以及所述石膏冲洗水混合物中的石膏冲洗水，并用所述排水和所述石膏冲洗水喷洒所述真空皮带脱水机上的所述石膏，以生成所述石膏滤液混合物和所述石膏冲洗水混合物。

2.如权利要求1所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，所述真空皮带脱水机包括：皮带、真空槽、石膏滤液引水管、石膏滤液排水母管、石膏冲洗水引水管、石膏冲洗水排气倒U弯和石膏冲洗水排水管。

3.如权利要求2所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，

所述皮带用于带动石膏移动；

所述真空槽形成于所述皮带下方，分为：

石膏滤液接收区，其连接有至少一个石膏滤液引水管；

石膏冲洗水接收区，其连接有至少一个石膏冲洗水引水管；

所述石膏滤液引水管与所述石膏滤液排水母管连通；

所述石膏冲洗水引水管与所述石膏冲洗水排水管联通，所述石膏冲洗水排水管设置有所述石膏冲洗水排气倒U弯，所述石膏冲洗水排气倒U弯与所述石膏滤液排水母管连通。

4.如权利要求2所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，

所述石膏滤液混合物包括：石膏滤液与空气；所述石膏冲洗水混合物包括：石膏冲洗水与空气；

所述石膏滤液接收区将所述石膏滤液混合物引至石膏滤液排水母管，所述石膏冲洗水接收区将所述石膏冲洗水混合物引至所述石膏冲洗水排水管，所述石膏冲洗水混合物在石膏冲洗水排气倒U弯的作用下气水分离，空气通过所述石膏冲洗水排气倒U弯进入所述石膏滤液排水母管，所述石膏冲洗水随着重力作用进入回收喷洒子系统，循环使用。

5.如权利要求2所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，所述排气排水子系统包括：气水分离器和水环式真空泵。

6.如权利要求5所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，所述气水分离器连接所述石膏滤液排水母管，所述水环式真空泵连接所述气水分离器；

所述气水分离器对所述石膏滤液排水母管排入的所述石膏滤液混合物进行气水分离，所述石膏滤液通过所述气水分离器排出，空气通过所述水环式真空泵排放；所述石膏冲洗水混合物中的空气依次经所述气水分离器和所述水环式真空泵排放。

7.如权利要求5所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，所述回收喷洒子系统包括：石膏冲洗水箱、石膏冲洗水泵、石膏冲洗水分布器和石膏冲洗水排水阀。

8.如权利要求7所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，所述石膏冲洗水箱连接所述水环式真空泵，并与所述石膏冲洗水排水管联通；所述石膏冲洗水箱用于回收所述石膏冲洗水排水管引入的石膏冲洗水，并引入所述水环式真空泵的排水；

所述石膏冲洗水箱的下游依次连接石膏冲洗水泵和石膏冲洗水分布器；在所述石膏冲洗水泵的作用下，所述石膏冲洗水箱中的水经所述石膏冲洗水分布器均匀喷洒至所述皮带上的石膏。

9.如权利要求7所述的石膏氯离子控制系统，其特征在于，所述石膏冲洗水泵和所述石膏冲洗水分布器之间连接有石膏冲洗水排水阀；所述石膏冲洗水排水阀可将部分石膏冲洗水排出，排出的石膏冲洗水用于真空皮带脱水机滤布冲洗或者给脱硫吸收塔补水。

10.一种石膏氯离子控制方法，其利用权利要求1-9中任一项所述的石膏氯离子控制系统对石膏氯离子浓度进行控制，包括：步骤S1：真空皮带脱水机带动石膏移动，并将石膏滤液混合物输送至排气排水子系统，将石膏冲洗水混合物输送至排气排水子系统和回收喷洒子系统；

步骤S2：排气排水子系统将石膏滤液混合物以及石膏冲洗水混合物中的空气排出；以及步骤S3：回收喷洒子系统回收排气排水子系统提供的排水以及石膏冲洗水混合物中的石膏冲洗水，并用排水和石膏冲洗水喷洒真空皮带脱水机上的石膏，以生成石膏滤液混合物和石膏冲洗水混合物。