1.一种电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，主要包括下述步骤：

S1，预处理：将需要沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层的应变式力传感器经严格的清洗工序后装在等离子体增强磁控溅射镀膜机的工件架上并抽真空到5×10-4～5×10-3Pa；

S2，氩离子刻蚀清洗：向真空室内通入氩气使真空室压强调整到0.05～0.5Pa，开启灯丝加热电源使灯丝加热到2000-3000℃使真空室内产生高密度氩等离子体，开启工件偏压电源使等离子体中的氩离子被加速并以很高的能量轰击工件，利用高能的氩离子轰击进一步去除经S1步骤处理后的应变式力传感器表面的污染物；

S3，沉积Cr过渡层：开启Cr靶，在经S2步骤氩离子刻蚀清洗的应变式力传感器表面沉积Cr过渡层；

S4，沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层：在经S3步骤沉积有Cr过渡层的应变式力传感器表面沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层；

S5，冷却：将经S4步骤沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层的应变式力传感器在真空室内缓慢冷却到100℃以下，然后对真空室充气卸下镀膜后的应变式力传感器。

2.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S1步骤中的所述清洗工序采用超声波清洗、有机溶剂浸泡清洗和有机溶剂蒸汽清洗中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S2步骤氩离子刻蚀清洗时，灯丝和真空室壁分别接灯丝放电电源输出的负极和正极，工件架和真空室壁分别接工件偏压电源输出的负极和正极，灯丝放电电源和工件偏压电源输出采用恒压控制模式，灯丝放电电源和工件偏压电源的输出电压分别为

50-120V和50-500V，氩离子刻蚀清洗时间为10～120min。

4.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S3步骤沉积Cr过渡层时，Cr靶和真空室壁分别接磁控溅射电源输出的负极和正极，磁控溅射电源的输出采用恒功率控制模式，输出功率为2～8kW，通入氩气的流量与S2步骤氩离子刻蚀清洗相同。

5.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S3步骤沉积Cr过渡层时，灯丝和真空室壁分别接灯丝放电电源输出的负极和正极，工件架和真空室壁分别接工件偏压电源输出的负极和正极，灯丝放电电源和工件偏压电源输出采用恒压控制模式，灯丝放电电源和工件偏压电源的输出电压分别为

50-120V和50-500V，通入氩气的流量与S2步骤氩离子刻蚀清洗相同。

6.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S3步骤沉积的Cr过渡层厚度为10～100nm；S4步骤沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层时交替沉积CrSiN层和Cr层，单层CrSiN层的厚度为2～20nm，单层Cr层的厚度为1～5nm，CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层的总厚度为1～10μm。

7.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S4步骤沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层过程中，Cr靶和真空室壁分别接磁控溅射电源输出的负极和正极，磁控溅射电源输出采用恒功率控制模式，输出功率为2～8kW。

8.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S4步骤沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层过程中，灯丝和真空室壁分别接灯丝放电电源输出的负极和正极，工件架和真空室壁分别接工件偏压电源输出的负极和正极，灯丝放电电源和工件偏压电源的输出采用恒压控制模式，灯丝放电电源和工件偏压电源的输出电压分别为50～120V和50～500V。

9.根据权利要求1所述的电池注液用应变式称重传感器CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层制备方法，其特征在于，S4步骤沉积CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层过程中，在沉积CrSiN层时，除向真空室内按照S2步骤氩离子刻蚀清洗中通入的氩气流量通入氩气外，还向该真空室内通入氮气和硅烷，氮气和硅烷的流量分别为30～100sccm和5～50sccm；且在沉积Cr层时，只向真空室内通入氩气，该通入的氩气流量与S2步骤氩离子刻蚀清洗相同。

10.一种权利要求1至9中任一权利要求所述制备方法制备所得的带有CrSiN/Cr纳米多层耐蚀涂层的电池注液用应变式称重传感器。