1.一种低压烧结的聚晶立方氮化硼刀具的制备方法，其特征在于：所述聚晶立方氮化硼刀具以cBN微粉、hBN微粉、四硼酸锂为原料，采用放电等离子烧结工艺，制备得到聚晶立方氮化硼烧结体；将聚晶立方氮化硼烧结体加工成聚晶立方氮化硼刀具。

2.根据权利要求1所述的一种低压烧结的聚晶立方氮化硼刀具的制备方法，其特征在于：所述聚晶立方氮化硼烧结体的制备方法，包括以下步骤：(1)混料：将cBN微粉、hBN微粉和四硼酸锂研磨混合均匀后，装填到石墨模具中；

(2)热处理：将装填完毕后的石墨模具置于氮气气氛炉中，750℃热处理2 4h后，转移至~

150℃烘箱中干燥6 8h；

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(3) 放电等离子烧结：干燥好的石墨模具置于放电等离子烧结腔中，抽真空至6Pa以下，以150℃/min的升温速率升至1000 1400℃，在 30 100MPa的压力条件下烧结，并保温5~ ~ ~

20min；

(4)冷却：烧结结束后，石墨模具随炉冷却，卸压、脱模后得到高致密高强度的聚晶立方氮化硼烧结体。

3.根据权利要求2所述的一种低压烧结的聚晶立方氮化硼刀具的制备方法，其特征在于：所述cBN微粉、hBN微粉和四硼酸锂的组分如下：cBN微粉体积百分比含量为60 90%、hBN~微粉体积百分比含量为10 30%、四硼酸锂体积百分比含量为0 10%。

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4.根据权利要求3所述的一种低压烧结的聚晶立方氮化硼刀具的制备方法，其特征在于：所述cBN微粉是粒度为2 10μm的cBN微粉和粒度为30 100μm的cBN微粉的混合物；粒度为~ ~

2~10μm的cBN微粉和粒度为30~100μm的cBN微粉的体积比为V2~10μm:V30~100μm=1:4。

5.根据权利要求3所述的一种低压烧结的聚晶立方氮化硼刀具的制备方法，其特征在于：所述hBN微粉的粒度为30 50μm。

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6.一种如权利要求1-5任一项所述的低压烧结的聚晶立方氮化硼刀具的制备方法所制备获得的聚晶立方氮化硼刀具。