1.一种具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：包括底座（1）、顶板（2）、支撑机构、喷釉机构、第一支板（3）、第二支板（4）和夹持装置，所述顶板（2）的两端分别通过所述第一支板（3）和所述第二支板（4）固定在所述底座（1）的上方，所述喷釉机构与所述顶板（2）连接，所述支撑机构和所述夹持装置分别设置在所述第一支板（3）和所述第二支板（4）的相互正对的一侧，所述底座（1）上设有控制器（5）；

所述夹持装置包括平移机构和若干夹持机构，所述平移机构包括平移组件、第一气缸（6）、第一电机（7）和靠板（8），所述第一气缸（6）朝向所述第二支板（4），所述第一气缸（6）为棱柱形，所述第一气缸（6）的活塞通过所述平移组件与所述第二支板（4）连接，所述第一电机（7）固定在所述第一气缸（6）的缸体上，所述第一电机（7）与所述靠板（8）传动连接，所述第一气缸（6）的缸体内设有处于压缩状态的弹簧（9），所述弹簧（9）的两端分别与所述第一气缸（6）的缸体内的底部和活塞连接，所述夹持机构周向均匀分布在所述第一气缸（6）的外周；

所述夹持机构包括第二气缸（10）、连接组件、第二电机（11）和支架（12），所述第二气缸（10）通过所述连接组件与所述第一气缸（6）连接，所述第二气缸（10）朝向所述靠板（8）中心轴线，所述第二电机（11）固定在所述第二气缸（10）的活塞上，所述第二电机（11）与PLC电连接，所述支架（12）的一端与所述第二电机（11）的输出轴固定连接，所述支架（12）的另一端穿过所述靠板（8）所在的平面。

2.根据权利要求1所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述喷釉机构包括固定在顶板（2）上方的储釉箱（13）、固定在顶板（2）下方的加压泵（14）和位于加压泵（14）下方的喷管（15），所述喷管（15）下方设有若干喷头，所述储釉箱（13）通过加压泵（14）与喷管（15）连通。

3.根据权利要求1所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述支撑机构包括位于第一支板（3）上的转动单元和位于底座（1）上的支撑单元，所述支撑单元包括固定在底座（1）上的电动推杆（16）、与第一支板（3）铰接的托板（17）和两端分别与托板（17）和电动推杆（16）铰接的支杆（18）。

4.根据权利要求3所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述转动单元包括位于第一支板（3）两侧的转板（19）和用于连接两个转板（19）的转轴（20），所述转轴（20）穿过所述第一支板（3）。

5.根据权利要求3所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述转板（19）的靠近第一支板（3）的一侧设有若干凹口，所述凹口内设有与其相匹配的滚珠（21），所述滚珠（21）的球心位于所述凹口内，所述滚珠（21）抵靠在所述第一支板（3）上。

6.根据权利要求1所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述平移组件包括第三电机（22）、丝杆（23）、套管（24）和位于套管（24）上下两侧的滑动单元，所述第三电机（22）固定在所述第二支板（4）上，所述第三电机（22）与所述丝杆（23）传动连接，所述套管（24）与所述丝杆（23）螺纹连接，所述套管（24）与所述第一气缸（6）的活塞固定连接。

7.根据权利要求6所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述滑动单元包括固定在套管（24）上的滑板（25）、固定在第二支板（4）上的横轴（26）和固定在横轴（26）远离第二支板（4）一端的凸块（27），所述滑板（25）套设在所述横轴（26）上。

8.根据权利要求1所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述第一气缸（6）的开口处设有若干限位块（28）。

9.根据权利要求1所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述连接组件包括用于固定连接第一气缸（6）和第二气缸（10）的连接板（29）和用于连通第一气缸（6）和第二气缸（10）的连接管（30）。

10.根据权利要求1所述的具有定位功能的防偏移的搪瓷生产系统，其特征在于：所述支架（12）的远离第二电机（11）的一端设有滚轮（31）。