1.可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置，其特征在于包括：反应釜内衬、基底材料固定架和螺杆，基底材料固定架通过螺杆置于反应釜内衬的底部，基底材料固定架上设置有凹槽，基底材料置于凹槽内。

2.根据权利要求1所述的可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置，其特征在于，所述基底材料固定架的凹槽宽度为0.5mm～22mm。

3.根据权利要求1所述的可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置，其特征在于，所述基底材料固定架的直径为30mm～600mm。

4.根据权利要求1所述的可大量制备均匀生长自支撑电极材料的简易装置，其特征在于，所述基底材料固定架与螺杆的连接方式为螺纹连接。