1.一种钛酸钡陶瓷基板清洗装置，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)的内部左侧固定安装有清洗槽(2)，所述清洗槽(2)的内部活动安装有清洗篮(3)，所述清洗槽(2)的下端外表面位于箱体(1)的内部的位置固定安装有换能器(5)，所述箱体(1)的内部位于清洗槽(2)的下方的位置固定安装有超声波发生器(6)，所述清洗槽(2)的右侧外表面固定连接有连接管(7)，所述连接管(7)的中间外表面固定安装有过滤器(8)，所述连接管(7)的一端位于箱体(1)的内部中间的位置固定安装有集水箱(12)，所述集水箱(12)的上端位于箱体(1)的内部的位置固定安装有水泵(13)，所述水泵(13)的一端固定连接有抽水管(14)，所述水泵(13)的另一端固定连接有送水管(15)，所述送水管(15)的上端固定安装有水龙头(16)，所述箱体(1)的内部右侧位于水龙头(16)的下方的位置固定安装有清洗盆(17)，所述清洗盆(17)的下端外表面固定连接有排水管(18)。

2.根据权利要求1所述的一种钛酸钡陶瓷基板清洗装置，其特征在于，所述抽水管(14)的下端与集水箱(12)固定连接，所述送水管(15)的上端呈U型结构。

3.根据权利要求1所述的一种钛酸钡陶瓷基板清洗装置，其特征在于，所述换能器(5)的数量为若干组，所述换能器(5)的型号为KMD-2860，所述超声波发生器(6)的型号为THD-T1，所述换能器(5)的输入端与超声波发生器(6)的输出端电性连接，所述超声波发生器(6)与水泵(13)的输入端均与外部电源的输出端电性连接。

4.根据权利要求1所述的一种钛酸钡陶瓷基板清洗装置，其特征在于，所述过滤器(8)的内部固定安装有滤芯(9)，所述滤芯(9)由活性炭过滤层(10)与活性硅砂过滤层(11)组成。

5.根据权利要求1所述的一种钛酸钡陶瓷基板清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(2)的上端外表面固定安装有盖板(4)，所述盖板(4)的上端外表面固定安装有把手。

6.根据权利要求1所述的一种钛酸钡陶瓷基板清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(2)与集水箱(12)通过连接管(7)贯通连接，所述箱体(1)的上端位于清洗槽(2)与清洗盆(17)之间的位置固定安装有置物台。