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专利号: 2019112714607
申请人: 深圳先进技术研究院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 光学
更新日期:2024-10-29
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种宽带反射器,包括基底、至少两层高折射率差光栅;

其中,所述至少两层高折射率差光栅平行于所述基底设置,并且最下层高折射率差光栅距离所述基底有一定间隔;各层高折射率差光栅之间也具有一定间隔;

各层高折射率差光栅的高反射率波段主体部分互不相同;同时对于高反射率波段主体部分相邻的两层高折射率差光栅来说,它们的高反射率波段主体部分相互交叠,重合的波段也具有高反射率。

2.根据权利要求1所述的宽带反射器,其特征在于:所述各层高折射率差光栅的制作材料为折射率高并且无损耗的材料。

3.根据权利要求1所述的宽带反射器,其特征在于:针对可见光波段,所述各层高折射率差光栅的制作材料为GaN或者TiO2;针对红外波段,所述各层高折射率差光栅的制作材料为Si。

4.根据权利要求1所述的宽带反射器,其特征在于:各层高折射率差光栅的高度范围为

100‑500nm,占空比为0.5‑0.8,周期小于工作波长。

5.根据权利要求1所述的宽带反射器,其特征在于:针对可见光波段,所述各层高折射率差光栅的周期范围为200‑500nm;针对红外波段,所述各层高折射率差光栅的周期范围为

400‑800nm。

6.根据权利要求1所述的宽带反射器,其特征在于:工作波段覆盖可见光至红外波段。

7.根据权利要求1所述的宽带反射器,其特征在于:所述高反射率波段的反射率为大于

95%。

8.一种使电磁波反射的方法,包括:构建至少两层高折射率差光栅,并且各层高折射率差光栅之间具有一定间隔;其中,各层高折射率差光栅的高反射率波段主体部分互不相同;同时对于高反射率波段主体部分相邻的两层高折射率差光栅来说,它们的高反射率波段主体部分相互交叠,重合的波段也具有高反射率;

电磁波从最外层高折射率差光栅的一侧入射,并经所述至少两层高折射率差光栅反射。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于:还包括根据严格耦合波模型理论,计算各层高折射率差光栅之间的间隔在不同数值下的反射效果,根据反射效果选择最优的间隔。

10.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于:所述各层高折射率差光栅的制作材料为折射率高并且无损耗的材料。

11.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于:针对可见光波段,所述各层高折射率差光栅的制作材料为GaN或者TiO2;针对红外波段,所述各层高折射率差光栅的制作材料为Si。

12.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于:各层高折射率差光栅的高度范围为

100‑500nm,占空比为0.5‑0.8,周期小于工作波长。

13.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于:针对可见光波段,所述各层高折射率差光栅的周期范围为200‑500nm;针对红外波段,所述各层高折射率差光栅的周期范围为

400‑800nm。

14.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于:所述电磁波为可见光至红外波段的电磁波。

15.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于:所述高反射率波段的反射率为大于

95%。