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专利号: 2019111007685
申请人: 陕西科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-07-25
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极的制备方法,其特征在于包括以下合成步骤:

1)将0.2~0.3g偏钒酸钠溶于25-35mL的去离子水中,然后再加入2.5mL氨水搅拌均匀得澄清溶液A;

2)取0.75~0.85g硫代乙酰胺和0.12~0.2g四水合钼酸铵加入到澄清溶液A中,搅拌均匀得溶液B;

3)将溶液B转移到高压反应釜中,并将钼箔竖直置于溶液B中,然后置于反应烘箱中,在

150~180℃水热反应;

4)待反应结束后,将反应釜在室温下冷却,产物用去离子水和乙醇冲洗干净后真空干燥得到MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极。

2.根据权利要求1所述的MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极的制备方法,其特征在于:所述步骤1和2)钼源与钒源的摩尔比为0.05~0.1:1。

3.根据权利要求1所述的MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极的制备方法,其特征在于:所述步骤3)水热反应为一步水热法,其反应时间为22~25h。

4.根据权利要求1所述的MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极的制备方法,其特征在于:所述的步骤3)的钼箔的尺寸为1*6cm,将钼箔先后浸入纯丙酮溶液和盐酸溶液中超声清洗,然后分别用乙醇与去离子水交替冲洗后真空干燥。

5.根据权利要求1所述的MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极的制备方法,其特征在于:所述步骤4)真空干燥是在60℃下真空干燥6h。

6.一种根据权利要求1所述制备方法制得的MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极,其特征在于:所得自支撑电极是一种纳米片自组装的VS2微米花自支撑电极,其中VS2纳米片内嵌MoS2纳米带。

7.一种如权利要求1所述制备方法制得的MoS2纳米带嵌入的VS2微米花自支撑电极在大电流下即>200mA cm-2具有突出的电催化产氢性能:在酸性介质中,当获得500和1000mA cm-2的电流密度时,所需过电势分别为282和336mV。