1.一种耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将ODA加入反应装置中，再加入DMAc，使得固体含量为10%‑20%，搅拌混合均匀，转速为

500‑1500转每分钟，待ODA在DMAc中完全溶解后，称取与ODA等摩尔比的PMDA，分批多次加入到反应装置中，PMDA加料过程0.5‑1h，直至胶液粘度增大到搅拌器出现“爬杆”现象为止，降低转速至50‑500转每分钟，继续搅拌6‑12小时，最终得到具有高分子量的纯PAA胶液；

将ODA加入反应装置中，再加入DMAc，使得固体含量为固体含量10%‑20%，搅拌混合均匀，转速为500‑1500转每分钟，待ODA在DMAc中完全溶解后，加入气相氧化铝粉体质量分数

15‑30%，搅拌均匀，称取与ODA等摩尔比的PMDA，分批多次加入到反应装置中，PMDA加料过程

0.5‑1h，直至胶液粘度增大到搅拌器出现“爬杆”现象为止，降低转速至50‑500转每分钟，继续搅拌6‑12小时，最终得到杂化胶液；

将纯PAA胶液通过储存设备倒在的滚动钢带上，利用铺膜刀具将胶液按所需厚度均匀铺在钢板上，缓慢匀速进行铺膜；

o

将铺好纯PAA胶液的钢板送入预热炉，温度维持在120‑280C摄氏度，停留时间10‑30分钟，对纯PAA胶液进行脱水环化处理，之后将纯膜剥离进入下一步辊涂；纯膜厚度为10‑15微米；

将杂化胶液通过储存设备辊涂到剥离的薄膜上，通过压力和牵引力来调节每次的滚涂o

层厚，在第一次滚涂之后，烘箱温度范围120‑280 C，停留时间10分钟‑30分钟，涂层厚度为o

0.5‑5微米；第二次滚涂之后，预热炉温度180‑300 C，停留时间10‑30分钟，涂层厚度为0.5‑o

5微米；第三次滚涂之后，预热炉200‑320C，停留时间10‑30分钟，涂层厚度为0.5‑5微米；第o

四次滚涂之后，预热炉220‑340 C，停留时间10‑30分钟，涂层厚度为0.5‑5微米；第五次滚涂o o

之后，预热炉240‑350 C，停留时间10‑30分钟，涂层厚度为0.5‑5微米；之后进入烘箱350C，停留60‑120分钟之后进行收卷；

其中，步骤（1）和（2）无先后顺序要求。

2.根据权利要求1所述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中气相氧化铝粉体粒径100‑5000nm。

3.根据权利要求1所述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，纯PAA胶液放入储存设备等待铺膜前，对纯PAA胶液预处理，预处理为：利用铜网进行去杂质及除气泡处理；

杂化胶液放入储存设备等待铺膜前，对杂化胶液预处理，预处理为：利用铜网进行去杂质及除气泡处理后。

4.一种耐电晕聚酰亚胺薄膜，采用权利要求1所述耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备方法制备，其特征在于，所述聚酰亚胺薄膜包括位于中间层的纯PAA层，纯PAA层的上下表面均设置有五层掺杂有氧化铝粉的PAA杂化层。

5.根据权利要求4所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述纯PAA层厚度为10‑15微米，各层所述PAA杂化层厚度为0.5‑5微米，所述耐电晕聚酰亚胺薄膜厚度为20‑30微米。

6.根据权利要求5所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜，其特征在于，各层所述PAA杂化层厚度相等。

7.根据权利要求4所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述氧化铝粉为气相氧化铝粉体，粒径100‑5000nm，质量分数15‑30%。

8.一种耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备系统，其特征在于，包括水平设置的铺膜装置以及五个竖直串联设置的辊涂装置；

所述铺膜装置包括滚动的钢带、设置于所述钢带上方的第一储存设备、铺膜刀具和第一预热炉，所述第一储存设备用于存储纯PAA胶液；

所述辊涂装置包括左右对称设置的第二储存设备、辊涂辊以及第二预热炉；

纯PAA胶液经所述第一储存设备倒在的滚动钢带上，经所述铺膜刀具铺平，并经所述第一预热炉脱水环化处理，剥离后形成纯膜进入相邻的所述辊涂装置；杂化胶液经左右两侧的所述第二储存设备倒在所述纯膜的左右两侧表面上，经左右两侧的辊涂辊的辊压后进入烘箱，进入下一个所述辊涂装置。

9.根据权利要求8所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备系统，其特征在于，还包括设置于辊涂装置后的烘箱、收卷辊。

10.根据权利要求8所述的耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备系统，其特征在于，所述辊涂装置还包括辅助辊，所述辅助辊设置于所述辊涂装置的首端和/或者末端，用于辅助将膜引入或者导出所述辅助辊设置。