利索能及
我要发布
收藏
专利号: 2019109670533
申请人: 淮阴工学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种成像分析方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1:搭建成像系统;所述成像系统包括:光源调制模块、偏振控制器一(PC1)、偏振控制器二(PC2)、偏振控制器三(PC3)、偏振控制器四(PC4)、准直透镜三(L3)、准直透镜四(L4)、准直透镜五(L5)、聚焦透镜一(L6)、聚焦透镜二(FL)、参照反射镜(M3)、扫描振镜(GM)、光栅(Grating)和线阵CCD;所述偏振控制器一(PC1)、偏振控制器二(PC2)、偏振控制器三(PC3)、偏振控制器四(PC4)用于控制光纤耦合器二(FC2)四条光路的偏振态,增加线阵CCD上采集到的干涉条纹对比度;具体的,所述偏振控制器一(PC1)用于控制经动镜模块和静镜模块反射的反射光的偏振态,该偏振控制器一(PC1)设置在光纤耦合器二(FC2)用于接收经动镜模块和静镜模块反射的反射光的臂上;所述偏振控制器二(PC2)设置在光纤耦合器二(FC2)与准直透镜四(L4)之间;所述偏振控制器三(PC3)设置在光纤耦合器二(FC2)与准直透镜三(L3)之间;所述偏振控制器四(PC4)设置在光纤耦合器二(FC2)与准直透镜五(L5)之间;

S2:由所述光源调制模块产生的光源入射后分为两路,一路经过准直透镜三(L3)准直后经扫描振镜(GM)反射和聚焦透镜一(L6)聚焦后照在样品上;另一路经准直透镜四(L4)准直后入射至参考反射镜(M3)上;

S2:获取样品的背向散射光和参考反射镜的反射光;

S3:将S2获取到的光通过准直透镜五(L5)准直后经过光栅(Grating)衍射,得到不同波长的衍射光;

S4:衍射光经聚焦透镜二(FL)聚焦后由线阵CCD采集输入至计算机,得到干涉光谱信号;

S5:对干涉光谱信息进行处理,得到样品的深度结构信息;

其中,所述光源调制模块包括:光纤耦合器一(FC1)、动镜模块、静镜模块和光纤耦合器二(FC2);所述光纤耦合器一(FC1)对普通光源进行耦合后分别入射至动镜模块和静镜模块,经动镜模块和静镜模块反射的反射光送入所述光纤耦合器二(FC2)进行耦合得到干涉信号,该干涉信号作为成像系统的光源入射至成像系统;所述动镜模块包括依次设置的准直透镜一(L1)、平面反射镜一(M1)和驱动所述平面反射镜一(M1)进行移动的电机;所述静镜模块包括依次设置的准直透镜二(L2)和平面反射镜二(M2);

所述S5具体包括以下步骤:

对干涉光谱信号沿横向扫描方向得到重构复数域的干涉光谱信号;

对复数域的干涉光谱信号沿纵向扫描方法进行傅里叶变换,重构样品的纵向信息。

2.根据权利要求1所述的一种成像分析方法,其特征在于:对于光源调制模块,通过调节动镜的轴向位移速度,完成对光源的频率调制,调制频率=2*轴向速度*横向扫描间隔。

3.根据权利要求1所述的一种成像分析方法,其特征在于:所述得到重构复数域的干涉光谱信号的步骤具体采用:对干涉光谱信号沿横向扫描方向进行希尔伯特变换,得到重构复数域的干涉光谱信号。