1.一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

1）将表面覆盖TEOS的碳纳米材料加入到PDMS/二甲苯溶液中，超声，使碳纳米材料完全分散，随后除去溶剂，加入固化剂，固化成膜，得到膜基起皱体系的软基底；

2）将高分子材料与光敏剂溶于有机溶剂中得到的溶液旋涂在富含碳纳米材料的PDMS软基底上，旋涂后的样品真空烘箱处理除去有机溶剂，得到以高分子材料为表面硬膜、碳纳米材料/PDMS为软基底的复合膜结构；

3）复合膜层通过近红外光照射一定时间，利用软硬层热膨胀系数的差异，实现褶皱材料表面的制备；

步骤1）中，所述的表面覆盖TEOS的碳纳米材料通过将碳纳米材料预浸在TEOS溶液里超声处理，随后离心分离，除去上清液后获得，其中超声时间为1‑5h，离心转速为2000‑5000r/min；

步骤1）中，所述的表面覆盖TEOS的碳纳米材料置于PDMS/二甲苯溶液中，超声时间为8‑

20h，超声温度为10 50℃；所述的碳纳米材料与聚二甲基硅氧烷的质量比为0.01%‑0.1%。

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2.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤1）中，所述的碳纳米材料选自单壁碳纳米管（CNT）、石墨烯(GR)中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤1）中，所述的除去溶剂的方式为利用真空烘箱在50‑80℃下处理18‑48h；所述的固化成膜方式为将含有固化剂、聚二甲基硅氧烷与碳纳米材料的混合溶液倒入事先准备好的模具中，置于真空烘箱中，在50‑80℃下处理18‑48h。

4.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤2）中，所述的高分子材料选自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯（PS）、聚乙烯醇（PVA）、聚乙烯吡咯烷酮（PVP）、聚乳酸（PLA）中的一种；

步骤2）中，所述的光敏剂选自亚甲基蓝、二氢卟吩e6中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤2）中，所述的有机溶剂为二氯甲烷、四氢呋喃，二甲苯、氯仿、乙酸乙酯中的一种或多种组合。

6.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤2）中，所述的高分子材料的浓度为2.5‑50mg/ml，光敏剂浓度0.1‑0.5mg/ml，持续超声10‑60min,超声温度10‑50℃。

7.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤2）中，所述的旋涂转速为800‑5000r/min。

8.根据权利要求1所述的一种近红外光响应型杀菌‑脱粘附褶皱表面的制备方法，其特征在于：步骤3）中，所述的复合膜层通过近红外光照射时间为5‑60min。