1.一种化妆品原料研磨设备，包括初破机构(1)、研磨机构(2)、落料腔机构(3)、收集机构(4)，其特征在于：所述的初破机构(1)与研磨机构(2)相连，研磨机构(2)与落料腔机构(3)相连，落料腔机构(3)与收集机构(4)相连。

2.根据权利要求1所述的一种化妆品原料研磨设备，其特征在于：所述的初破机构(1)包括支腿(1-1)、下壳体(1-2)、高强度螺栓(1-3)、配合螺纹孔(1-4)、配合螺纹孔I(1-5)、内圈壳(1-6)、进料口(1-7)、进料开口(1-8)、带侧开口甩料圆座(1-9)、连接轴(1-10)、电机(1-11)、落料口(1-12)，支腿(1-1)与下壳体(1-2)相连，高强度螺栓(1-3)与配合螺纹孔(1-

4)相连，配合螺纹孔(1-4)攻在下壳体(1-2)上，高强度螺栓(1-3)与配合螺纹孔I(1-5)相连，配合螺纹孔I(1-5)攻在内圈壳(1-6)上，进料口(1-7)开在内圈壳(1-6)上，进料开口(1-

8)开在进料开口(1-8)上，连接轴(1-10)与带侧开口甩料圆座(1-9)相连，连接轴(1-10)与下壳体(1-2)的连接方式为轴承连接，连接轴(1-10)与电机(1-11)相连，电机(1-11)与下壳体(1-2)相连，落料口(1-12)开在下壳体(1-2)上。

3.根据权利要求1所述的一种化妆品原料研磨设备，其特征在于：所述的研磨机构(2)包括齿圈(2-1)、挡料圈板(2-2)、分料机构(2-3)、固定机构(2-4)、研磨夹紧座(2-5)、配合孔A(2-6)、研磨支撑机构(2-7)、研磨执行机构(2-8)、研磨座机构(2-9)、研磨座锁紧螺钉(2-10)、旋转驱动电机齿轮(2-11)、旋转电机(2-12)、限位机构(2-13)、二级固定机构(2-

14)，齿圈(2-1)与挡料圈板(2-2)相连，齿圈(2-1)与旋转驱动电机齿轮(2-11)相啮合，旋转驱动电机齿轮(2-11)与旋转电机(2-12)相连，旋转电机(2-12)与固定机构(2-4)相连，挡料圈板(2-2)与分料机构(2-3)相连，分料机构(2-3)与固定机构(2-4)滑动连接，研磨夹紧座(2-5)与分料机构(2-3)相连，配合孔A(2-6)开在研磨夹紧座(2-5)上，研磨支撑机构(2-7)通过限位机构(2-13)固定在研磨夹紧座(2-5)上，限位机构(2-13)与配合孔A(2-6)相配合，研磨执行机构(2-8)与研磨支撑机构(2-7)相配合，研磨座机构(2-9)与研磨座锁紧螺钉(2-

10)相连，二级固定机构(2-14)与研磨夹紧座(2-5)相连，二级固定机构(2-14)与限位机构(2-13)相配合；分料机构(2-3)包括分料旋转座(2-3-1)、滑轮(2-3-2)、分料锥(2-3-3)、分料支撑(2-3-4)、开孔(2-3-5)、料通过孔(2-3-6)，分料旋转座(2-3-1)与滑轮(2-3-2)相铰接，分料锥(2-3-3)与分料支撑(2-3-4)相连，分料支撑(2-3-4)开在分料支撑(2-3-4)上，料通过孔(2-3-6)开在分料旋转座(2-3-1)上，分料支撑(2-3-4)设置在料通过孔(2-3-6)内，分料支撑(2-3-4)与分料旋转座(2-3-1)相连；固定机构(2-4)包括固定环座(2-4-1)、滑轮槽(2-4-2)，滑轮槽(2-4-2)开在固定环座(2-4-1)上，滑轮(2-3-2)与滑轮槽(2-4-2)相配合，固定环座(2-4-1)与支腿(1-1)相连；研磨支撑机构(2-7)包括支撑壳(2-7-1)、限位杆I配合孔(2-7-2)、阶梯孔(2-7-3)，限位杆I配合孔(2-7-2)开在支撑壳(2-7-1)上，阶梯孔(2-

7-3)开在支撑壳(2-7-1)上，支撑壳(2-7-1)与研磨夹紧座(2-5)相配合；研磨执行机构(2-

8)包括研磨头(2-8-1)、研磨头支撑(2-8-2)、凸台(2-8-3)、弹簧(2-8-4)、上滑杆(2-8-5)、限位盘(2-8-6)，研磨头支撑(2-8-2)设置在研磨头(2-8-1)与凸台(2-8-3)之间，上滑杆(2-

8-5)设置在凸台(2-8-3)与限位盘(2-8-6)之间，弹簧(2-8-4)套在上滑杆(2-8-5)上，凸台(2-8-3)与阶梯孔(2-7-3)相配合，研磨头(2-8-1)与阶梯孔(2-7-3)相配合，上滑杆(2-8-5)与阶梯孔(2-7-3)相配合，弹簧(2-8-4)设置在阶梯孔(2-7-3)内；研磨座机构(2-9)包括研磨座体(2-9-1)、锁紧螺纹孔I(2-9-2)、研磨槽(2-9-3)、研磨出口(2-9-4)，锁紧螺纹孔I(2-

9-2)攻在研磨座体(2-9-1)上，研磨槽(2-9-3)开在研磨座体(2-9-1)上，研磨出口(2-9-4)开在研磨座体(2-9-1)上，锁紧螺纹孔I(2-9-2)与研磨座锁紧螺钉(2-10)相连；限位机构(2-13)包括限位杆I座(2-13-1)、二级锁紧孔(2-13-2)、限位杆I(2-13-3)，限位杆I座(2-

13-1)与限位杆I(2-13-3)相连，二级锁紧孔(2-13-2)开在限位杆I座(2-13-1)上，限位杆I(2-13-3)与配合孔A(2-6)相配合，限位杆I(2-13-3)与限位杆I配合孔(2-7-2)相配合；二级固定机构(2-14)包括二级限位螺钉(2-14-1)、二级限位螺钉座(2-14-2)，二级限位螺钉(2-

14-1)与二级限位螺钉座(2-14-2)相连，二级限位螺钉座(2-14-2)与研磨夹紧座(2-5)相连，二级限位螺钉(2-14-1)与二级锁紧孔(2-13-2)相配合。

4.根据权利要求1所述的一种化妆品原料研磨设备，其特征在于：所述的落料腔机构(3)包括阶梯腔(3-1)、研磨座锁紧螺钉螺纹孔I(3-2)、落料腔壳体(3-3)、内部腔(3-4)、传递管(3-5)，阶梯腔(3-1)设置在落料腔壳体(3-3)内，研磨座锁紧螺钉螺纹孔I(3-2)开在落料腔壳体(3-3)上，内部腔(3-4)设置在落料腔壳体(3-3)内，传递管(3-5)与落料腔壳体(3-

3)相连，研磨座体(2-9-1)与阶梯腔(3-1)相配合，研磨座锁紧螺钉(2-10)与研磨座锁紧螺钉螺纹孔I(3-2)相连，固定环座(2-4-1)与落料腔壳体(3-3)相连。

5.根据权利要求1所述的一种化妆品原料研磨设备，其特征在于：所述的收集机构(4)包括收集壳体机构(4-1)、负压风机机构(4-2)、抖动机构(4-3)，负压风机机构(4-2)设置在收集壳体机构(4-1)内，抖动机构(4-3)设置在收集壳体机构(4-1)内，负压风机机构(4-2)与抖动机构(4-3)相配合；收集壳体机构(4-1)包括收集壳体本体(4-1-1)、进风口(4-1-2)、出料管(4-1-3)，进风口(4-1-2)开在收集壳体本体(4-1-1)上，出料管(4-1-3)与收集壳体本体(4-1-1)相连，收集壳体本体(4-1-1)与传递管(3-5)相连；负压风机机构(4-2)包括垫块(4-2-1)、横板(4-2-2)、滑动孔(4-2-3)、清理弹簧(4-2-4)、滑动T座(4-2-5)、连接座(4-

2-6)、负压风扇本体(4-2-7)、滑轮连接座(4-2-8)、滑轮I(4-2-9)，垫块(4-2-1)与横板(4-

2-2)相连，滑动孔(4-2-3)开在横板(4-2-2)上，清理弹簧(4-2-4)套在滑动T座(4-2-5)上，滑动T座(4-2-5)与滑动孔(4-2-3)相配合，连接座(4-2-6)焊接在滑动T座(4-2-5)与负压风扇本体(4-2-7)之间，滑轮连接座(4-2-8)与负压风扇本体(4-2-7)相连，滑轮I(4-2-9)与滑轮连接座(4-2-8)相铰接，垫块(4-2-1)与收集壳体本体(4-1-1)相连；抖动机构(4-3)包括凸轮座(4-3-1)、凸轮轴(4-3-2)、凸轮(4-3-3)、凸轮联轴器(4-3-4)、凸轮电机(4-3-5)，凸轮座(4-3-1)与凸轮轴(4-3-2)的连接方式为轴承连接，凸轮轴(4-3-2)与凸轮(4-3-3)相连，凸轮轴(4-3-2)与凸轮电机(4-3-5)通过凸轮联轴器(4-3-4)相连，凸轮座(4-3-1)与收集壳体本体(4-1-1)相连，凸轮(4-3-3)与滑轮I(4-2-9)相配合，凸轮电机(4-3-5)与收集壳体本体(4-1-1)相连。

6.根据权利要求5所述的一种化妆品原料研磨设备，其特征在于：所述的凸轮(4-3-3)的材料为高锰钢。