利索能及
我要发布
收藏
专利号: 2019101805176
申请人: 广西科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种三维荧光中瑞利散射扣除方法,其特征在于:该方法是先找出与荧光不重叠的瑞利峰,获取瑞利峰数据R,将瑞利峰数据R消除随机误差和噪声后作为单位瑞利峰RD;从瑞利峰与荧光出现交叠的发射光谱开始,逐步消除瑞利峰,直至所有交叠的瑞利散射被消除;

该方法包括以下步骤:

S1.测量样本的三维荧光光谱;

S2.找出与荧光不重叠的瑞利峰,将含完整的瑞利峰型数据另外存储为瑞利峰数据R;

S3.取瑞利峰数据R,以中心波长对齐,按峰高归一化后平均,消除随机误差和噪声,作为后续的单位瑞利峰RD;

S4.从瑞利峰与荧光出现交叠的发射光谱开始,逐步消除瑞利峰;

S5.依次对下一波长交叠的发射光谱,直至所有交叠的瑞利散射被消除;

在步骤S4中,是按照以下瑞利峰扣除步骤进行消除瑞利峰:S4‑1.将单位瑞利峰RD中心波长λ与荧光‑瑞利交叠光谱中的瑞利峰中心位对齐;

S4‑2.选择荧光‑瑞利交叠光谱附近若干个相邻发射谱,构成比对矩阵M;

S4‑3.以单位瑞利峰RD强度为步长Δ,从荧光‑瑞利交叠光谱中扣减Δ,得到扣减后的光谱K;

S4‑4.计算光谱K与比对矩阵M的夹角θ;

S4‑5.依次增加步长nΔ,n=2,3,…n,重复步骤S4‑3和S4‑4,直至出现最小夹角值θmin;

S4‑6.将荧光‑瑞利交叠光谱减去与最小夹角对应步长强度nΔ的瑞利峰,即完成了瑞利峰的扣除。

2.根据权利要求1所述的三维荧光中瑞利散射扣除方法,其特征在于:在步骤S4‑2中,所述的选择荧光‑瑞利交叠光谱附近若干个相邻发射谱是选择与中心波长λ处光谱间隔大于等于10nm的4个发射谱。