1.一种气液界面制备纳米钴膜的方法，其特征在于该方法由下述步骤组成：(1)将乙酸钴、乙二胺四乙酸的二钠盐按摩尔比为1:1～1:3加入去离子水中，并加入柠檬酸钠水溶液，在60～80℃下搅拌混合均匀，用氢氧化钠水溶液调节混合液的pH值至9～

12，得到前驱体溶液；所述前驱体溶液中乙酸钴的摩尔浓度为0.001～0.01mol/L、柠檬酸钠的质量浓度为0.01％～0.05％；

(2)将质量浓度为40％～80％的水合肼水溶液加热至微沸状态，通入到步骤(1)的前驱体溶液的表面，在通风橱中反应12～24小时，在气液界面上形成纳米钴膜，并沉降至反应液底部。

2.根据权利要求1所述的气液界面制备纳米钴膜的方法，其特征在于：步骤(1)中，将乙酸钴、乙二胺四乙酸的二钠盐按摩尔比为1:1加入去离子水中，并加入柠檬酸钠水溶液，在

80℃下搅拌混合均匀，用氢氧化钠水溶液调节混合液的pH值至11～12，得到前驱体溶液。

3.根据权利要求1或2所述的气液界面制备纳米钴膜的方法，其特征在于：步骤(1)中，所述前驱体溶液中乙酸钴的摩尔浓度为0.005～0.01mol/L。

4.根据权利要求1或2所述的气液界面制备纳米钴膜的方法，其特征在于：步骤(1)中，所述前驱体溶液中柠檬酸钠的质量浓度为0.03％～0.04％。

5.根据权利要求1所述的气液界面制备纳米钴膜的方法，其特征在于：步骤(2)中，所述水合肼水溶液的质量浓度为60％～80％。