1.利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的装置，其特征是，所述装置中激光经扩束准直镜后获得大口径平行光束，所述大口径平行光束经过起偏器后经过偏振分光棱镜获得两束偏振方向分别沿竖直和水平方向的大口径平行光束；

所述偏振方向沿竖直和水平方向的大口径平行光束分别经过平面反射镜反射后入射到两块具有相同参数的二维正交光栅上；

所述具有相同参数的二维正交光栅分别位于右侧的光学支路及下方的光学支路中，通过调整两个二维正交光栅的相对位置，两条光学支路的光场的叠加产生所需的周期阵列正方矢量光束。

2.如权利要求1所述的利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的装置，其特征是，在两条光学支路中，经过二维正交光栅的光场经过傅里叶透镜在透镜后焦面处生成频谱，通过滤波器选择中心若干个亮斑通过，经过滤波器的若干个点光源经过另一偏振分光棱镜后再经过另外的傅里叶透镜。

3.如权利要求1所述的利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的装置，其特征是，利用CCD记录两条光学支路中对应的若干个点光源经过另一偏振分光棱镜后再经过另外的傅里叶透镜后的光场的光强分布情况。

4.如权利要求1所述的利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的装置，其特征是，下方的光学支路所使用的二维正交光栅相对于右侧的光学支路中所使用的二维正交光栅沿光轴旋转了90度。

5.如权利要求1所述的利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的装置，其特征是，两块具有相同参数的二维正交光栅均采用二元纯相位型光栅。

6.如权利要求1所述的利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的装置，其特征是，右侧的光学支路中所使用的二维正交光栅在竖直和水平两个方向上的周期长度之比为1：2；

下方的光学支路所使用的二维正交光栅，其在竖直和水平两个方向上的周期长度之比为2：1。

7.利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的方法，其特征是，包括：

激光经扩束准直镜后获得大口径平行光束，所述大口径平行光束经过起偏器后经过偏振分光棱镜获得两束偏振方向分别沿竖直和水平方向的大口径平行光束；

所述偏振方向沿竖直和水平方向的大口径平行光束分别经过平面反射镜反射后入射到两块具有相同参数的二维正交光栅上；

所述具有相同参数的二维正交光栅分别位于右侧的光学支路及下方的光学支路中，通过调整两个二维正交光栅的相对位置，两条光学支路的光场的叠加产生所需的周期阵列正方矢量光束。

8.如权利要求7所述的利用二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的方法，其特征是，在两条光学支路中，经过二维正交光栅的光场经过傅里叶透镜在透镜后焦面处生成频谱，通过滤波器选择中心若干个亮斑通过，经过滤波器的若干个点光源经过另一偏振分光棱镜后再经过另外的傅里叶透镜。

9.一种应用，利用权利要求7-8任一所述的二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的方法应用在材料的加工领域。

10.一种应用，利用权利要求7-8任一所述的二维光栅产生空间衍射不变正方阵列矢量光束的方法应用在粒子的分流领域。