1.一种以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法，其特征在于：氮气气氛中，将硅烷交联剂和二甲基硅氧烷单体按1∶10～30的质量比混合；然后真空处理后于60～120℃保温2～3h；然后自然冷却形成聚二甲基硅氧烷；然后，在氮气氛下，将聚二甲基硅氧烷放置在含有光敏剂和发光剂的有机溶剂中，浸泡18～30小时，取出烘干即得以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂。

2. 根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法，其特征在于：所述硅烷交联剂为苯基三丁酮肟基硅烷；真空处理时间为20～40 min。

3.根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法，其特征在于：所述含有光敏剂和发光剂的有机溶剂与聚二甲基硅氧烷的质量比为1∶1～10；所述有机溶剂为甲苯。

4.根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法，其特征在于：所述聚二甲基硅氧烷的透光率为95～100%。

5.根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法，其特征在于：所述发光剂的化学结构通式如下：其中R1为苯基、4-甲基苯基或者萘基；R2为氢、氯、甲基、羧基或者甲酯基；R3为苯基、4-甲基苯基或者萘基；

所述光敏剂的化学结构通式如下：

其中R选自：氢、溴、氯、甲基或者羟基；M为钯或者铂。

6.根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法，其特征在于：所述光敏剂与发光剂的摩尔比为1∶250～2500。