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专利号: 2018800006697
申请人: 深圳市汇顶科技股份有限公司
专利类型:其他
专利状态:已下证
更新日期:2026-04-30
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种测量物体距离的方法,所述方法包括:

第一光源向所述物体发射第一光线;

第二光源向所述物体发射第二光线,其中所述第一光线和所述第二光线在第一点处会聚并在第二点处发散;

使用光学传感器捕获被所述第一光线照射的所述物体的第一图像;

使用所述光学传感器捕获被所述第二光线照射的所述物体的第二图像;

确定所述物体的所述第一图像与所述第二图像之间的图像差异;以及基于所述图像差异和所述第一点与所述第二点之间的距离差,确定所述物体相对于所述第一点的距离。

2.如权利要求1所述的方法,其中所述第一光线和所述第二光线与所述第一点完全重叠。

3.如权利要求1所述的方法,其中所述第一光线和所述第二光线在所述第二点处完全发散。

4.如权利要求1所述的方法,其中所述图像差异指示所述第一光线与所述第二光线之间的重叠程度。

5.如权利要求1所述的方法,还包括在所述第一光源和所述第二光源附近放置光束结构掩模,以将所述第一光线和所述第二光线结构化,从而获得结构化的第一光线和结构化的第二光线,其中所述结构化的第一光线和所述结构化的第二光线具有相同的结构。

6.如权利要求1所述的方法,其中结构化的第一光线和结构化的第二光线包括一组子光点,使得所述结构化的第一光线中的每个子光点与所述结构化的第二光线中的子光点相对应。

7.如权利要求1所述的方法,其中结构化的第一光线中的第一子光点与结构化的第二光线中的第一子光点相对应,并且其中确定所述物体的所述第一图像与所述第二图像之间的所述图像差异包括:比较所述结构化的第一光线中的所述第一子光点的位置和所述结构化的第二光线中的所述第一子光点的位置;以及基于所述比较,确定所述结构化的第一光线中的所述第一子光点与所述结构化的第二光线中的所述第一子光点之间的重叠程度。

8.如权利要求7所述的方法,还包括:

对所述第一图像和所述第二图像进行归一化来获得对应的位置图像,以确定所述结构化的第一光线中的所述第一子光点与所述结构化的第二光线中的所述第一子光点的之间所述重叠程度。

9.如权利要求1所述的方法,其中所述光学传感器被配置为捕获彩色图像,并且所述第一光线和所述第二光线具有不同的颜色。

10.如权利要求9所述的方法,其中所述第一图像和所述第二图像是相同的图像,并且其中所述第一光线和所述第二光线同时或基本上同时照射所述物体。

11.如权利要求1所述的方法,其中所述第一光线和所述第二光线同时或基本上同时照射所述物体,并且其中所述第一图像和所述第二图像被同时捕获。

12.如权利要求1所述的方法,还包括去除所述第一图像和所述第二图像中的背景光,以便确定所述图像差异。

13.一种测量物体距离的装置,所述装置包括光学传感器、第一光源、第二光源,其中:所述第一光源被配置为向所述物体发射第一光线;

所述第二光源被配置为向所述物体发射第二光线,其中所述第一光线和所述第二光线在第一点处会聚并且在第二点处发散;

所述光学传感器被配置为:

捕获被所述第一光线照射的所述物体的第一图像;以及

捕获被所述第二光线照射的所述物体的第二图像;以及

所述装置被配置为:

确定所述物体的所述第一图像和所述第二图像之间的图像差异;以及基于所述图像差异和所述第一点与所述第二点之间的距离差,确定所述物体相对于所述第一点的距离。

14.如权利要求13所述的装置,其中所述图像差异指示所述第一光线与所述第二光线之间的重叠程度。

15.如权利要求13所述的装置,还包括设置在所述第一光源和所述第二光源附近的光束结构掩模,用于将所述第一光线和所述第二光线结构化,以获得结构化的第一光线和结构化的第二光线,其中所述结构化的第一光线和所述结构化的第二光线具有相同的结构。

16.如权利要求13所述的装置,其中结构化的第一光线和结构化的第二光线包括一组子光点,使得所述结构化的第一光线中的每个子光点与所述结构化的第二光线中的子光点相对应,并且其中所述结构化的第一光线中的第一子光点与所述结构化的第二光线中的第一子光点相对应,并且其中确定所述物体的所述第一图像与所述第二图像之间的所述图像差异包括:比较所述结构化的第一光线中的所述第一子光点的位置和所述结构化的第二光线中的所述第一子光点的位置;以及基于所述比较,确定所述结构化的第一光线中的所述第一子光点与所述结构化的第二光线中的所述第一子光点之间的重叠程度。

17.如权利要求13所述的装置,其中所述光学传感器被配置为捕获彩色图像,并且所述第一光线和所述第二光线具有不同的颜色。

18.如权利要求17所述的装置,其中所述第一图像和所述第二图像是相同的图像,并且其中所述第一光源和所述第二光源被配置为使得所述第一光线和所述第二光线同时或基本上同时照射所述物体。

19.如权利要求13所述的装置,其中所述第一光源和所述第二光源被配置为使得所述第一光线和所述第二光线同时或基本上同时照射所述物体,并且其中所述光学传感器被配置为同时捕获所述第一图像和所述第二图像。

20.如权利要求13所述的装置,还被配置为去除所述第一图像和所述第二图像中的背景光线,以便确定所述图像差异。