1.一种柔性抛光装置，其特征在于：包括

一底板，为圆形，直径为300‑400mm；

和多个抛光块，抛光块的厚度为1‑3mm，其横截面形状为对称的L形，包括耐磨高分子材料制成的一弹性基体和通过结合剂均匀附着在该弹性基体上的硬质磨料，对称的L形的每一边的宽度为4‑6mm，长度为16‑18mm；

上述多个抛光块呈若干同心圆环状阵列分布在上述底板的表面，每一抛光块的横截面的平分线为该抛光块所在圆环的切线，且该抛光块的数量从内圆环到外圆环呈等差数列；

相邻抛光块之间具有间隙以排出抛光过程中产生的碎屑；在抛光过程中，抛光块产生磨损，外层的硬质磨粒磨损脱落，内层的硬质磨粒逐渐露出，使抛光块具有自锐性，相邻二圆环的间距为24 26mm；

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其制备方法包括如下步骤：

（1）将所述硬质磨料与所述结合剂混合搅拌均匀，然后均匀涂覆在所述弹性基体上，固化后在切割成所述对称的L形的抛光块，结合剂为环氧树脂、有机硅树脂、光固化树脂或海藻酸钠，弹性基体的材质为聚氨酯海绵或高分子纤维垫；

（2）将该抛光块粘结于所述底板上，即成。

2.如权利要求1所述的一种柔性抛光装置，其特征在于：所述硬质磨料的粒径为W3‑W40。

3.如权利要求1所述的一种柔性抛光装置，其特征在于：所述硬质磨料的材质为金刚石、碳化硅、立方碳化硼和氧化铝中的至少一种。