1.一种含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：该复合膜由面心立方结构的(CrTa)N置换固溶体和面心立方结构的Ag两相构成，其化学式为(CrTa)N/Ag；该复合膜的制备方法包括如下步骤：（1）将预处理后的基体置于溅射室内，调节真空度6.0×10-4 Pa以下，通入氩气起弧，启动Cr靶、Ta靶和Ag靶，以功率均为20-30 W进行预溅射10-15 min；

（2）将Cr靶以功率150 W在基体上沉积Cr过渡层，并通入N2，随后将Cr靶以功率150 W、Ta靶以功率50 W和Ag靶以功率20-60 W，在溅射气压0.3 Pa条件下共焦溅射2 h，制得银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜；

所述复合膜中Cr的含量为33.0±1.7at. %、Ta的含量为30.8±1.5at. %、N的含量为

32.8±1.6 at. %、O的含量为2.1±0.1 at. %或所述复合膜中Cr的含量为29.1±1.5at. %、Ta的含量为28.1±1.4 at. %、N的含量为32.4±1.6 at. %、O的含量为2.3±0.1 at. %，或所述复合膜中Cr的含量为28.1±1.4at. %、Ta的含量为27.3±1.4at. %、N的含量为32.0±1.6 at. %、O的含量为2.0±0.1 at. %，或所述复合膜中Cr的含量为27.4±1.4at. %、Ta的含量为26.8±1.3at. %、N的含量为31.9±1.6 at. %、O的含量为2.4±0.1 at. %，或所述复合膜中Cr的含量为26.2±1.3at. %、Ta的含量为25.3±1.3at. %、N的含量为31.8±

1.6 at. %、O的含量为2.2±0.1 at. %。

2.根据权利要求1所述的含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：该复合膜的厚度为1.5-2 μm。

3.根据权利要求1所述的含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：该复合膜中Ag含量为1.3-14.5 at.%。

4.根据权利要求1所述的含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：步骤（1）中，所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。

5.根据权利要求1所述的含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：所述氩气和氮气流量比为10:5。

6.根据权利要求1所述的含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：步骤（2）中，所述Cr过渡层的厚度为200-500 nm。