1.一种含银的氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：该复合膜由面心立方结构的(CrTa)N置换固溶体和面心立方结构的Ag两相构成，其化学式为(CrTa)N/Ag。

2.根据权利要求1所述的银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：该复合膜的厚度为1.5-2μm。

3.根据权利要求1所述的银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜，其特征在于：该复合膜中Ag含量为1.3-14.5at.％。

4.一种制备权利要求1所述的银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜的方法，其特征在于包括如下步骤：(1)将预处理后的基体置于溅射室内，调节真空度6.0×10-4Pa以下，通入氩气起弧，启动Cr靶、Ta靶和Ag靶，以功率均为20-30W进行预溅射10-15min；

(2)将Cr靶以功率150W在基体上沉积Cr过渡层，并通入N2，随后将Cr靶以功率150W、Ta靶以功率50W和Ag靶以功率20-60W，在溅射气压0.3Pa条件下共焦溅射2h，制得银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜。

5.根据权利要求4所述的制备银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜的方法，其特征在于：步骤(1)中，所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。

6.根据权利要求4所述的制备银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜的方法，其特征在于：所述氩气和氮气流量比为10:5。

7.根据权利要求4所述的制备银/氮化铬基硬质纳米结构复合膜的方法，其特征在于：步骤(2)中，所述Cr过渡层的厚度为200-500nm。