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专利号: 2018113740638
申请人: 南京邮电大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-08-04
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于重力场调控的液态金属吸波器,包括底层金属反射板以及金属板上方带有凹槽的介质基板,其特征在于:所述介质基板内部具有放置汞与油液的一号凹槽与二号凹槽,且一、二号凹槽之间具有连通部,通过旋转该吸波器,在重力场作用下,液态金属的位置会发生改变分别变成门字形结构和口字形结构,从而实现吸收频点的动态调控。

2.根据权利要求1所述的基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于:所述介质基板内部的一号凹槽为门字形结构,二号凹槽为口字形结构。

3.根据权利要求2所述的基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于:所述一号凹槽位于介质基板内部一端,其内部放置有利用液体之间的不溶性使液态金属不会在旋转后残留在原位置的油液;所述二号凹槽位于介质基板内部,其内部放置有液态金属;所述一号凹槽和二号凹槽的体积相等。

4.根据权利要求2所述的基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于:所述“门”字形凹槽结构为长6mm,宽为5.084mm,高为0.05mm的长方体,其中挖去一个长为5mm,宽为

0.8mm,高为0.05mm和一个长为5mm,宽为3.1mm,高为0.05mm的长方体;所述“口”字形凹槽结构为长6mm,宽为3.67mm,高为0.05mm的长方体,其中挖去一个长4mm,宽为2.75mm,高为

0.05mm的长方体。

5.根据权利要求2所述的一种基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于:所述吸波器有未旋转和水平旋转状态;当吸波器未旋转时,二号凹槽位于所述介质基板内部下方,第一凹槽位于介质基板内部上方,在重力场作用下,二号凹槽内被海水充满,第一凹槽内被油液充满;当吸波器水平旋转时,二号凹槽位于所述介质基板内部上方,一号凹槽位于介质基板内部下方,在重力场作用下,二号凹槽内被油液充满,一号凹槽内被海水充满。

6.根据权利要求1所述的基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于,液体金属的材料是汞。

7.根据权利要求1所述的基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于,所述介质基板是具有损耗角正切的FR-4。

8.根据权利要求1所述的基于重力场调控的液态金属吸波器,其特征在于,金属反射板的材料是铜。