1.一种环形氧化铟锡电极的石英晶体微天平，其特征在于，包括石英晶体微天平、布置于石英晶体微天平上表面的环形氧化铟锡电极、布置于石英晶体微天平下表面的圆形金电极，以及布置于环形氧化铟锡电极中间透明区域的银纳米粒子；所述环形氧化铟锡电极用磁控溅射的方法制备在所述石英晶体微天平上表面，所述圆形金电极用电镀的方法制备在所述石英晶体微天平的下表面；在电镀圆形金电极之前，先在所述石英晶体微天平下表面通过磁控溅射的方法溅射一层铂，用以增强所述圆形金电极的粘附性；将所述环形氧化铟锡电极通过所述石英晶体微天平边缘的导电材料引导至所述石英晶体微天平背面，则所述环形氧化铟锡电极和圆形金电极都从石英晶体微天平背面引出引线；在所述环形氧化铟锡电极中心区域涂覆敏感层，所述敏感层为银纳米粒子，使用移液器取微量纳米溶液滴定于石英晶体微天平表面，使银纳米粒子在室温下自然干燥，使银纳米粒子吸附在石英晶体微天平表面。

2.如权利要求1所述的环形氧化铟锡电极的石英晶体微天平，其特征在于，所述导电材料为电凝胶。

3.如权利要求1所述的环形氧化铟锡电极的石英晶体微天平，其特征在于，所述磁控溅射的方法包括以下步骤：首先保证本地真空小于3.0*10-3Pa，在高真空充入20sccm的氩气和0.5sccm的氧气，在阴极和阳极之间施加直流电压，阴极为被沉积的材料，阳极为真空室，在真空室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离，氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。

4.如权利要求1所述的环形氧化铟锡电极的石英晶体微天平，其特征在于，环形氧化铟锡电极内径为4mm，外径为8mm、厚度为270nm、密度为7156kg/cm3。

5.如权利要求1所述的环形氧化铟锡电极的石英晶体微天平，其特征在于，圆形金电极半径为6mm，厚度为100nm，密度为19260kg/cm3。