1.一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）MOFs薄膜的制备：将有机配体溶液在三电极体系下通过电化学原位沉积方法形成MOFs薄膜；

2）TiO2-MOFs膜的制备：在乙醇溶剂中加入步骤1）得到的MOFs薄膜后，待浸润充分后，缓慢滴加入钛酸四丁酯，超声后转移至聚四氟乙烯内胆中，放置于不锈钢反应釜，在一定温度条件下保持一段时间，冷却后，洗涤，干燥得到TiO2-MOFs膜；

3）过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备：在超纯水中加入步骤2）得到的TiO2-

3+

MOFs后，待浸润充分后，加入含Fe 的固体化合物和MCl2固体，M=V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu和Zn中的一种或几种，超声后转移至聚四氟乙烯内胆中，放置于不锈钢反应釜，在一定温度条件下保持一段时间，冷却后，洗涤，干燥得到过渡金属修饰TiO2-MOFs膜复合电极。

2.根据权利要求1所述的一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，所述步骤1）有机配体溶液为吡啶类、苯甲酸类或咪唑类中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，所述步骤1）三电极体系指的是以铂丝网作为辅助电极、饱和甘汞电极作为参比电极，纯铜网作为工作电极的三电极体系，其中纯铜网的目数为5 20目。

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4.根据权利要求1所述的一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，所述步骤1）得到的MOFs薄膜厚度为20-60μm。

5.根据权利要求1所述的一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，所述步骤2）形成的TiO2为锐钛矿型，晶粒尺寸为10-40nm。

6.根据权利要求1所述的一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，所述步骤3）的TiO2均匀负载在MOFs膜表面，为TiO2-MOFs膜的复合电极质量的4%~

15%。

7.根据权利要求1所述的一种过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极的制备方法，其特征在于，所述步骤3）的过渡金属形成单金属氧化物或多金属氧化物，均匀嵌入TiO2-MOFs膜的复合电极表面，为TiO2-MOFs膜的复合电极质量的5%~10%。

8.权利要求1~7任一项所述的方法制备得到的过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极。

9.权利要求8所述的过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极在制备电化学和光催化电极材料中的应用。

10.权利要求8所述的过渡金属修饰TiO2-MOFs膜的复合电极在水污染处理或光/电化学耦合体系降解有机滤光剂方面的应用。