1.一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，具体按照如下步骤实施：步骤1、制备多孔Ti箔；

步骤2、制备钛酸钠纳米片团簇膜；

步骤3、制备TiO2纳米片团簇膜。

2.如权利要求1所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤1的具体过程如下：将清洗后的Ti箔置于HCl溶液中进行反应刻蚀，然后取出刻蚀后的Ti箔，并依次进行清洗、干燥，获得多孔Ti箔。

3.如权利要求2所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤1中，所述HCl溶液的质量浓度为20％～25％。

4.如权利要求2所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤1中，所述刻蚀温度为25℃～50℃，刻蚀时间为20h～40h。

5.如权利要求2所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤1中，经刻蚀后的Ti箔用去离子水清洗多次，直至清洗液的pH值为7，接着在60℃～80℃真空环境下干燥10h～15h，获得多孔Ti箔。

6.如权利要求1所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤2的具体过程如下：向水热反应釜中依次加入Na2S反应液和步骤1得到的多孔Ti箔后密封，接着将水热反应釜置于温度为180℃～220℃的鼓风烘箱中水热反应12h～24h，然后取出反应后的Ti箔负载物，并对该Ti箔负载物依次进行清洗及干燥，获得Ti箔负载的钛酸钠纳米片团簇膜。

7.如权利要求6所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤2中，所述Na2S反应液的浓度为0.1mol/L～5mol/L。

8.如权利要求1所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤3的具体过程如下：步骤3.1、向可封口的玻璃容器中依次加入HCl溶液及步骤2得到的Ti箔负载的钛酸钠纳米片团簇膜后封口，接着将玻璃容器置入温度为30℃～50℃的水浴中反应5h～10h；

步骤3.2、将反应后的Ti箔负载的钛酸钠纳米片团簇膜取出，并对反应后的Ti箔负载的钛酸钠纳米片团簇膜依次进行清洗及干燥，得到Ti箔负载的偏钛酸纳米片团簇膜；

步骤3.3、将Ti箔负载的偏钛酸纳米片团簇膜进行空气环境退火处理，待偏钛酸完全热分解之后，得到TiO2纳米片团簇膜。

9.如权利要求8所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤3.1中，所述HCl溶液的质量浓度为10％～20％，体积为100ml。

10.如权利要求8所述的一种TiO2纳米片团簇膜的原位制备方法，其特征在于，步骤3.3中，所述退火温度为350℃～500℃，退火时间为3h～5h。