1.一种污水中亚硝酸盐与氨氮光催化同时脱除方法，其特征在于包括：向含有亚硝酸盐及氨氮的污水中加入铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂，形成混合体系，调节所述混合体系至pH值为9.0‑10.5，通入氮气，以紫外可见光照射所述混合体系，再向所述混合体系中通入空气，之后再以紫外可见光照射所述混合体系，从而同时彻底脱除污水中的亚硝酸盐及氨氮；

其中，所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂选自铋酸铜‑氧化石墨烯复合半导体材料和/或铋酸铜‑氮杂石墨烯复合半导体材料，所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂中氧化石墨烯或氮杂石墨烯的含量为0.01‑10.0wt%。

2.根据权利要求1所述的脱除方法，其特征在于：所述铋酸铜‑氧化石墨烯复合半导体材料中氧化石墨烯的含量为0.01‑10.0wt%，铋酸铜的含量为90.00‑99.99wt%。

3.根据权利要求1所述的脱除方法，其特征在于，所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂的制备方法包括：

将可溶性铋盐、可溶性铜盐与氧化石墨烯铋酸铜或氮杂石墨烯溶解于溶剂中混合均匀，之后调节所述混合溶液为碱性，再将所述混合溶液于180℃条件下反应8h，制得所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂；

其中，所述可溶性铋盐与可溶性铜盐的摩尔比为2：1，所述氧化石墨烯或氮杂石墨烯与铋酸铜的质量比为1‑9：100。

4.根据权利要求3所述的脱除方法，其特征在于：所述的可溶性铋盐为硝酸铋。

5.根据权利要求3所述的脱除方法，其特征在于：所述的可溶性铜盐为硝酸铜。

6.根据权利要求3所述的脱除方法，其特征在于：所述的溶剂为去离子水。

7.根据权利要求3所述的脱除方法，其特征在于：用以调节所述混合溶液至碱性的碱性物质为氢氧化钠。

8.根据权利要求3所述的脱除方法，其特征在于：所述制备方法还包括：将所述混合溶液置于温度为180℃的条件下反应8h，之后用去离子水洗涤、过滤，然后将其置于温度为40‑

60℃的烘箱内干燥24h，即制得所述的铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂。

9.一种污水中亚硝酸盐与氨氮光催化同时脱除方法，其特征在于包括：对含有氨氮的污水进行氧化处理或者生物法处理，使其中部分的氨氮被转化为亚硝态氮，之后加入铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂，形成混合体系，调节所述混合体系的pH值为9.0‑

10.5，先通氮除氧创造厌氧条件，之后再通入空气创造好氧条件，以紫外可见光照射所述混合体系，从而同时去除污水中的亚硝酸盐及氨氮；

其中，所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂选自铋酸铜‑氧化石墨烯复合半导体材料和/或铋酸铜‑氮杂石墨烯复合半导体材料，所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂中氧化石墨烯或氮杂石墨烯的含量为0.01‑10.0wt%。

10.根据权利要求9所述的脱除方法，其特征在于：所述铋酸铜‑氧化石墨烯复合半导体材料中氧化石墨烯的含量为0.01‑10.0wt%，铋酸铜的含量为90.00‑99.99wt%。

11.根据权利要求9所述的脱除方法，其特征在于：所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂的制备方法包括：

将可溶性铋盐、可溶性铜盐与氧化石墨烯铋酸铜或氮杂石墨烯溶解于溶剂中混合均匀，之后调节所述混合溶液为碱性，再将所述混合溶液于180℃条件下反应8h，制得所述铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂；

其中，所述可溶性铋盐与可溶性铜盐的摩尔比为2：1，所述氧化石墨烯或氮杂石墨烯与铋酸铜的质量比为1‑9：100。

12.根据权利要求11所述的脱除方法，其特征在于：所述的可溶性铋盐为硝酸铋。

13.根据权利要求11所述的脱除方法，其特征在于：所述的可溶性铜盐为硝酸铜。

14.根据权利要求11所述的脱除方法，其特征在于：所述的溶剂为去离子水。

15.根据权利要求11所述的脱除方法，其特征在于：用以调节所述混合溶液至碱性的碱性物质为氢氧化钠。

16.根据权利要求11所述的脱除方法，其特征在于：所述制备方法还包括：将所述混合溶液置于温度为180℃的条件下反应8h，之后用去离子水洗涤、过滤，然后将其置于温度为

40‑60℃的烘箱内干燥24h，即制得所述的铋酸铜‑氧化石墨烯/氮杂石墨烯光催化剂。