1.一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，对目标电机的高效率区在恒转矩区所要满足的条件进行确定；

步骤2，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最上方，计算Pvertical，根据判断结果和Pvertical计算结果以确定是否需要对铜耗进行单独调节，最终仿真效率Map图；其中PVertical＝Pcopp-(Piron+PPM)，Pcopp表示铜耗，Piron表示铁耗，PPM表示永磁体涡流损耗；

步骤3，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最右边，计算PHorizontal，根据判断结果和PHorizontal计算结果以确定是否需要对铜耗进行单独调节，最终仿真效率Map图；其中，PHorizontal＝Pcopp-(Pc+PE+PPM)，Pc表示涡流铁耗，PE表示附加铁耗；

步骤4，判断高效率目标点是否位于高效率原有点的上方，根据判断结果以确定是否要计算Pvertical，根据Pvertical计算结果以确定是否需要对永磁体涡流损耗进行单独调节，最终仿真效率Map图；

步骤5，判断高效率目标点是否位于高效率原有点的左边，根据判断结果以确定是否要计算PHorizontal，根据PHorizontal计算结果以确定是否需要对永磁体涡流损耗进行单独调节，最终仿真效率Map图；

步骤6，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最上方，计算Pvertical，根据判断结果和Pvertical计算结果以确定是否需要对三种损耗进行综合调节，最终仿真效率Map图；

步骤7，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最右边，计算PHorizontal，根据判断结果和PHorizontal计算结果以确定是否需要对三种损耗进行综合调节，最终仿真效率Map图。

2.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤1中的高效率区在恒转矩区所要满足的条件为：PVertical＝Pcopp-(Piron+PPM)≈0

PHorizontal＝Pcopp-(Pc+PE+PPM)≈0

当Pvertical>0时，该点效率大于上方点的效率；当Pvertical<0时，该点效率大于下方点的效率；当PHorizontal>0时，该点效率大于左边点的效率；当PHorizontal<0时，该点效率大于右边点的效率；若想将高效率区进行上移，则要调节损耗使得Pvertical减小；若想将高效率区进行下移，则要调节损耗使得Pvertical增大；若想将高效率区进行右移，则要调节损耗使得PHorizontal增大；若想将高效率区进行左移，则要调节损耗使得PHorizontal减小；若想将高效率区移动至目标区域，则要将目标区域的点的Pvertical和PHorizontal优化至接近0。

3.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤2的具体实现过程为：步骤2.1，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最上方，计算Pvertical；

步骤2.2，若高效率目标点位于恒转矩区的最上方，Pvertical大于0，则对铜耗Pcopp进行调节，直到Pvertical不大于0为止，仿真效率Map图，将高效率区向上移动至目标点；

步骤2.3，若高效率目标点位于恒转矩区的最上方，Pvertical不大于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点；

步骤2.4，若高效率目标点不位于恒转矩区的最上方，Pvertical距离0值较远，则对铜耗Pcopp进行调节，直到Pvertical约等于0为止，仿真效率Map图，将高效率区移动至目标点；

步骤2.5，若高效率目标点不位于恒转矩区的最上方，Pvertical约等于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点。

4.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤3的具体实现过程为：步骤3.1，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最右边，计算PHorizontal；

步骤3.2，若高效率目标点位于恒转矩区的最右边，PHorizontal小于0，则对铜耗Pcopp进行调节，直到PHorizontal不小于0为止，仿真效率Map图，将高效率区向右移动至目标点；

步骤3.3，若高效率目标点位于恒转矩区的最右边，PHorizontal不小于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点；

步骤3.4，若高效率目标点不位于恒转矩区的最右边，PHorizontal距离0值较远，则对铜耗Pcopp进行调节，直到PHorizontal约等于0为止，仿真效率Map图，将高效率区移动至目标点；

步骤3.5，若高效率目标点不位于恒转矩区的最右边，PHorizontal约等于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点。

5.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤4的具体实现过程为：步骤4.1，判断高效率目标点是否位于高效率原有点的上方；

步骤4.2，若高效率目标点位于恒转矩区高效率原有点的上方，则该方法失效；

步骤4.3，若高效率目标点不位于恒转矩区高效率原有点的上方，计算Pvertical；

步骤4.4，若Pvertical距离0值较远，则对永磁体进行径向或轴向分段，降低PPM，直到Pvertical约等于0为止，仿真效率Map图，将高效率区向下移动至目标点；

步骤4.5，若Pvertical约等于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点。

6.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤5的具体实现过程为：步骤5.1，判断高效率目标点是否位于高效率原有点的左边；

步骤5.2，若高效率目标点位于恒转矩区高效率原有点的左边，则该方法失效；

步骤5.3，若高效率目标点不位于恒转矩区高效率原有点的左边，计算PHorizontal；

步骤5.4，若PHorizontal距离0值较远，则对永磁体进行径向或轴向分段，降低PPM，直到Pvertical约等于0为止，仿真效率Map图，将高效率区向右移动至目标点；

步骤5.5，若PHorizontal约等于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点。

7.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤6的具体实现过程为：步骤6.1，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最上方，计算Pvertical；

步骤6.2，若高效率目标点位于恒转矩区的最上方，Pvertical不大于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点；

步骤6.3，若高效率目标点位于恒转矩区的最上方，Pvertical大于0，判断是否可以通过调节Piron、PPM使得Pvertical减小，若可以则先调节Piron、PPM再调节Pcopp，若不可以则直接调节Pcopp使得Pvertical向0靠近，直到Pvertical不大于0，仿真效率Map图，将高效率区向上移动至目标点；

步骤6.4，若高效率目标点不位于恒转矩区的最上方，Pvertical约等于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点；

步骤6.5，若高效率目标点不位于恒转矩区的最上方，Pvertical距离0值较远，，判断是否可以通过调节Piron、PPM使得Pvertical向0靠近，若可以则先调节Piron、PPM再调节Pcopp，若不可以则直接调节Pcopp使得Pvertical向0靠近，直到Pvertical约等于0，仿真效率Map图，将高效率区移动至目标点。

8.根据权利要求1所述的一种基于损耗调节的高效率区移动方法，其特征在于：所述步骤7的具体实现过程为：步骤7.1，判断高效率目标点是否位于恒转矩区的最右边，计算PHorizontal；

步骤7.2，若高效率目标点位于恒转矩区的最右边，PHorizontal不小于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点；

步骤7.3，若高效率目标点位于恒转矩区的最右边，PHorizontal小于0，判断是否可以通过调节Piron、PPM使得PHorizontal增大，若可以则先调节Piron、PPM再调节Pcopp，若不可以则直接调节Pcopp使得PHorizontal向0靠近，直到PHorizontal不小于0，仿真效率Map图，将高效率区向右移动至目标点；

步骤7.4，若高效率目标点不位于恒转矩区的最右边，PHorizontal约等于0，则仿真效率Map图，高效率区已经位于目标点；

步骤7.5，若高效率目标点不位于恒转矩区的最右边，PHorizontal距离0值较远，判断是否可以通过调节Piron、PPM使得PHorizontal向0靠近，若可以则先调节Piron、PPM再调节Pcopp，若不可以则直接调节Pcopp使得PHorizontal向0靠近，直到Pvertical约等于0，仿真效率Map图，将高效率区移动至目标点。