1.一种自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备，其特征在于，包括：清洗槽、循环机构和上料机构，其中：清洗槽包括多个排列布置的水槽（1）；

循环机构包括循环带（2）和动力单元；循环带（2）依次从各水槽（1）内穿过，循环带（2）上设有若干个由其一端向其一端方向等间距布置的凹槽（a），且凹槽（a）的底部为镂空结构；动力单元用于驱动循环带（2）进行循环传送动作，并使其每动作一次，其循环带（2）移动量为凹槽（a）之间的间距；

排在首位的水槽（1）的内部且位于其中一个凹槽（a）的上方设有竖直布置的导向筒（3）；

上料机构用于将待清洗的工件向导向筒（3）内部输送并使其成水平状态落入导向筒（3）内；

排在首位的水槽（1）的底部设有鼓气口，该鼓气口与导向筒（3）位于同一直线上；水槽（1）的一侧设有与鼓气口连接以用于通过鼓气口向水槽（1）内输送高压气流的鼓气机构（7）；

上料机构包括用于输送工件的输送线（4）、位于输送线（4）输出端的导向板（5）和用于提供气流的吹气单元（6），输送线（4）的输出端位于导向筒（3）的上方并与导向筒（3）之间预留有间距，导向板（5）的一端与输送线（4）对接，其远离输送线（4）的一端与导向筒（3）的侧壁对接，且导向板（5）的内部设有夹腔，导向板（5）靠近导向筒（3）的一侧设有若干个与其内腔连通的气孔；吹气单元（6）用于向夹腔内输送气流；

导向板（5）靠近导向筒（3）的一侧安装有用于检测工件是否到位的到位传感器；吹气单元（6）根据到位传感器的检测结果进行气流输送动作。

2.根据权利要求1所述的自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备，其特征在于，导向筒（3）的内径由其顶端向其低端依次递减。

3.根据权利要求1所述的自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备，其特征在于，凹槽（a）的侧壁为镂空结构。

4.根据权利要求1‑3中任一项所述的自动上料的流动式太阳能电池晶体硅清洗设备，其特征在于，凹槽（a）的深度大于工件的厚度；各水槽（1）的内部均设有位于循环带（2）上方并沿循环带（2）传送方向间距布置的第一压辊（8）、第二压辊（9），且任意相邻的两个水槽（1）之间设有位于循环带（2）下方的导向辊（10）。