1.一种快速制备超薄特种陶瓷片的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(a)将洗净、干燥后的基板放置在激光化学气相沉积装置的加热台上，然后抽真空并预热基板；

(b)调整激光化学气相沉积装置的沉积参数，在基板上沉积特种陶瓷层；

(c)将基板与沉积得到的特种陶瓷层分离，得到超薄特种陶瓷片；

所述基板为厚度0.5mm-400mm的石墨材质，基板与特种陶瓷层采用燃烧的方法进行分离，燃烧室内压强控制在500-10000Pa，燃烧温度控制在473-873K，反应剂O2的流量控制在

20-500sccm，燃烧时间为10-120min；采用燃烧法分离得到的超薄特种陶瓷片先用由氨水和双氧水组成的混合溶液清洗，然后再使用氢氟酸水溶液超声清洗，最后用去离子水洗净并烘干；

或者所述基板为厚度0.5mm-400mm的单晶硅材质，基板与特种陶瓷层采用研磨法进行分离，通过研磨机将基板层磨去。

2.如权利要求1所述的一种快速制备超薄特种陶瓷片的方法，其特征在于：制得的超薄特种陶瓷片的厚度为400μm-3000μm。

3.如权利要求1所述的一种快速制备超薄特种陶瓷片的方法，其特征在于：所述超薄特种陶瓷片选自氧化物陶瓷、氮化物陶瓷、碳化物陶瓷中的一种。

4.如权利要求1所述的一种快速制备超薄特种陶瓷片的方法，其特征在于，步骤(a)具体过程如下：首先将基板依次置于丙酮、无水乙醇、去离子水中超声振荡清洗5-60min，然后将洗净的基板烘干并放置在激光化学气相沉积装置的加热台基板座上，抽真空使腔体压强降至50-10000Pa，同时将基板预热至323-1073K。

5.如权利要求1所述的一种快速制备超薄特种陶瓷片的方法，其特征在于，步骤(b)中激光化学气相沉积的参数为：沉积腔内部压强维持在50-5000Pa，载流气流量200-

2000sccm，反应剂气体流量50-1000sccm，激光功率不超过10kW，激光波长为100nm-1000μm，激光光斑直径为10mm-100cm。